[发明专利]用于印刷电路板光刻领域LDI光刻设备的光刻方法

权利要求书

1.一种用于印刷电路板光刻领域LDI光刻设备的光刻方法，该LDI光刻设备采用一个共轭距可变的光刻投影物镜，其特征在于，该方法包括步骤如下：

①计算所述的待曝光HDI基板厚度和所述的共轭距可变的光刻投影物镜的物距变化：

物距变化＝-1.273×基板厚度+1.91；

所述的共轭距可变的光刻投影物镜，沿物平面至像平面的光轴方向顺次包括由第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜和第五透镜构成的第一组合透镜组、孔径光阑、由第六透镜、第七透镜和第八透镜构成的第二组合透镜组，其特征在于，所述的第一透镜、第二透镜、第七透镜、第八透镜具有正光焦度，第三透镜、第四透镜、第五透镜、第六透镜具有负光焦度，所述的第一透镜、第七透镜、第八透镜为双凸透镜，第三透镜为双凹透镜，第二透镜、第四透镜、第五透镜、第六透镜为凹面朝向像平面的弯月透镜，所述的第一透镜、第二透镜、第三透镜选用冕牌玻璃，第四透镜、第五透镜、第六透镜选用火石玻璃，第七透镜、第八透镜选用冕牌玻璃，所述的第一组合透镜组的后焦点、孔径光阑的中心和第二组合透镜组的前焦点三者重合构成双远心光路；

②调整：

如果步骤①得到物距变化是正数，则将所述的共轭距可变的光刻投影物镜整体沿着光轴方向远离物平面移动所述的物距变化；

如果步骤①得到物距变化是负数，则将所述的共轭距可变的光刻投影物镜整体沿着光轴方向靠近物平面移动所述的物距变化；

③对HDI基板曝光。