[发明专利]洗碟机有效

专利信息
申请号: 201510431486.9 申请日: 2015-07-21
公开(公告)号: CN105266745B 公开(公告)日: 2018-04-17
发明(设计)人: 周炳炫;李钟敏;李惟敏;金希妍 申请(专利权)人: LG电子株式会社
主分类号: A47L15/44 分类号: A47L15/44;A47L15/42
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司11219 代理人: 高伟,陆弋
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 洗碟机
【权利要求书】:

1.一种洗碟机,包括:

桶,所述桶限定了清洗碟子的空间;

集水器,所述集水器容纳待供应到所述桶中的清洗水;和

除垢溶液供应装置,所述除垢溶液供应装置向所述集水器供应除垢溶液,

其中,所述除垢溶液供应装置包括:

主流动路径,所述主流动路径引导待供应到所述集水器的清洗水;

溶液容纳单元,所述溶液容纳单元容纳除垢剂并且具有溶液出口,溶解有所述除垢剂的清洗水通过所述溶液出口排放到所述主流动路径以用于供应到所述集水器;

溶液排放阀,所述溶液排放阀打开和关闭所述溶液出口;和

分支流动路径,所述分支流动路径从所述主流动路径分支,将所述清洗水供应到所述溶液容纳单元中并且具有与大气连通的大气连通端口,

所述洗碟机还包括:

水供应装置,所述水供应装置向所述主流动路径供应清洗水;和

控制器,所述控制器控制所述水供应装置以在所述溶液排放阀关闭时供应清洗水,

其中,所述分支流动路径包括:

上游侧分支流动路径,所述上游侧分支流动路径引导从所述主流动路径向上流动的清洗水;和

下游侧分支流动路径,所述下游侧分支流动路径引导沿着所述上游侧分支流动路径向下的所述清洗水,

其中,在所述下游侧分支流动路径中的水位被通过所述大气连通端口施加的大气压力限制为预定高度。

2.根据权利要求1所述的洗碟机,进一步包括:

中间流动路径,在流入到所述下游侧分支流动路径中的过程中,从所述上游侧分支流动路径排放的所述清洗水经过所述中间流动路径,

其中,所述大气连通端口被形成在所述中间流动路径中。

3.根据权利要求2所述的洗碟机,

其中,所述大气连通端口与所述水供应装置连通,使得通过所述大气连通端口溢出的清洗水返回到所述水供应装置。

4.根据权利要求2所述的洗碟机,其中,在所述清洗水流入到所述溶液容纳单元中时,所述大气连通端口被暴露于大气。

5.根据权利要求1所述的洗碟机,其中,所述上游侧分支流动路径的出口的面积小于所述下游侧分支流动路径的进口的面积。

6.根据权利要求5所述的洗碟机,其中,所述上游侧分支流动路径的所述出口的面积等于或者小于所述下游侧分支流动路径的所述进口的面积的1/10。

7.根据权利要求1所述的洗碟机,其中,所述主流动路径的所述溶液出口位于比所述下游侧分支流动路径中的水位被限制的高度低的位置处。

8.根据权利要求1所述的洗碟机,其中,所述主流动路径包括溶液融合路径,所述溶液融合路径被构造成向下引导所述清洗水并且然后向上引导所述清洗水,并且所述溶液出口位于所述溶液融合路径中。

9.根据权利要求8所述的洗碟机,其中,所述桶中的水位被限制为低于所述下游侧分支流动路径中的水位被限制的高度。

10.根据权利要求9所述的洗碟机,其中,在比所述下游侧分支流动路径中的所述水位被限制的所述高度低的位置处、在所述桶中形成排放所述清洗水的出口。

11.根据权利要求1所述的洗碟机,其中,所述除垢溶液供应装置包括:

容纳单元主体,所述容纳单元主体限定所述溶液容纳单元和所述主流动路径;和

主体盖,所述主体盖被联接到所述容纳单元主体并且限定所述分支流动路径。

12.根据权利要求11所述的洗碟机,其中,所述溶液容纳单元在其上侧处是敞开的,并且所述主体盖覆盖所述溶液容纳单元的敞开的上侧。

13.根据权利要求12所述的洗碟机,其中,所述容纳单元主体和所述主体盖被可分离地彼此联接。

14.根据权利要求11所述的洗碟机,其中,在所述主体盖中形成清洗水进口,清洗水通过所述清洗水进口流入到所述主流动路径中。

15.根据权利要求11所述的洗碟机,其中,在所述主体盖中形成与所述溶液容纳单元连通的除垢剂输入开口,并且设置塞子以打开和关闭所述除垢剂输入开口。

16.根据权利要求1所述的洗碟机,进一步包括:

残余量检测传感器,所述残余量检测传感器检测所述溶液容纳单元中的残余除垢剂的量。

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