[发明专利]一种铟纳米颗粒阵列修饰的石墨烯/硒化锌纳米带肖特基结蓝光光电开关及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201510418427.8 申请日: 2015-07-14
公开(公告)号: CN105118887B 公开(公告)日: 2016-11-30
发明(设计)人: 罗林保;王元;郑坤;卢瑞;于永强 申请(专利权)人: 合肥工业大学
主分类号: H01L31/108 分类号: H01L31/108;H01L31/18;H03K17/945
代理公司: 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 代理人: 何梅生
地址: 230009 安*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 纳米 颗粒 阵列 修饰 石墨 硒化锌 带肖特基结蓝光 光电开关 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种铟纳米颗粒阵列修饰的石墨烯/硒化锌纳米带肖特基结蓝光光电开关,其特征在于:在绝缘衬底(1)上表面分布有硒化锌纳米带(2),所述硒化锌纳米带(2)的一端设置有与所述硒化锌纳米带(2)呈欧姆接触的金电极(3),所述硒化锌纳米带(2)的另一端设置有与所述硒化锌纳米带(2)呈肖特基接触的石墨烯薄膜(4),在所述石墨烯薄膜(4)的上表面修饰有呈六角点阵排布的铟纳米颗粒阵列(5),在所述石墨烯薄膜(3)的一侧引出有与石墨烯薄膜呈欧姆接触的引出电极(6)。

2.根据权利要求1所述的铟纳米颗粒阵列修饰的石墨烯/硒化锌纳米带肖特基结蓝光光电开关,其特征在于:所述硒化锌纳米带为本征硒化锌纳米带;所述石墨烯薄膜为本征石墨烯薄膜。

3.根据权利要求1所述的铟纳米颗粒阵列修饰的石墨烯/硒化锌纳米带肖特基结蓝光光电开关,其特征在于:所述绝缘衬底是以单晶硅为基底、且二氧化硅层厚度不小于300nm的二氧化硅片。

4.根据权利要求1所述的铟纳米颗粒阵列修饰的石墨烯/硒化锌纳米带肖特基结蓝光光电开关,其特征在于:所述金电极厚度为15-30nm。

5.根据权利要求1所述的铟纳米颗粒阵列修饰的石墨烯/硒化锌纳米带肖特基结蓝光光电开关,其特征在于:所述铟纳米颗粒阵列采用聚苯乙烯微球模板法制作而成,所用聚苯乙烯微球的直径为300-900nm。

6.根据权利要求1所述的铟纳米颗粒阵列修饰的石墨烯/硒化锌纳米带肖特基结蓝光光电开关,其特征在于:构成所述铟纳米颗粒阵列的各铟纳米颗粒直径为50-90nm。

7.一种权利要求1-6中任意一项所述的铟纳米颗粒阵列修饰的石墨烯/硒化锌纳米带肖特基结蓝光光电开关的制备方法,其特征是按如下步骤进行:

(1)将二氧化硅片依次用丙酮、酒精超声10分钟,再用去离子水超声5分钟,然后用氮气枪吹干,获得绝缘衬底;

(2)通过刮蹭方式将硒化锌纳米带转移到绝缘衬底上;

(3)通过紫外光刻与电子束镀膜在硒化锌纳米带的一侧蒸镀金电极;

(4)通过气-液界面自组装法,在表面生长有石墨烯的铜箔上铺设具有六角密堆积结构的聚苯乙烯微球薄膜,作为生长铟纳米颗粒阵列的模板;

(5)利用热蒸发工艺在铺设有聚苯乙烯微球薄膜的铜箔上表面蒸镀厚度为50nm的铟膜,然后置于温度为70℃的酒精中浸泡10分钟,再置于甲苯溶液中均匀搅拌,使得石墨烯的上表面修饰呈六角点阵排布的铟纳米颗粒阵列;

通过刻蚀液将铜箔刻蚀掉,获得上表面修饰有呈六角点阵排布的铟纳米颗粒阵列的石墨烯薄膜;

(6)利用湿法转移将所述石墨烯薄膜转移到绝缘衬底上,使其位于硒化锌纳米带的另一侧;

(7)在石墨烯薄膜上表面点上银浆作为引出电极,即得铟纳米颗粒阵列修饰的石墨烯/硒化锌纳米带异质结蓝光光电开关。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥工业大学,未经合肥工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510418427.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top