[发明专利]曝光装置及方法

权利要求书

1.一种曝光装置，包括曝光单元，用于对晶圆进行曝光；所述曝光单元包括照明系统和掩模，所述照明系统包括匀光单元，其特征在于，所述匀光单元包括正六边形的匀光石英棒，所述掩模的形状为与所述匀光石英棒相匹配的正六边形。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，还包括泛曝光单元，用于对曝光后的晶圆进行泛曝光。

3.如权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述泛曝光单元，包括物料支撑结构，用于承载曝光后的晶圆；泛曝光源，提供泛曝光能量；泛曝光控制单元，用于控制所述泛曝光源的打开或闭合，以及控制所述泛曝光源打开或闭合的时间。

4.如权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，所述泛曝光源密闭设置在所述物料支撑结构的下方，以阻止外部光源进入泛曝光单元。

5.如权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，所述物料支撑结构向下兼容设置，以用于承载所有规格尺寸的晶圆。

6.如权利要求2或3或4或5所述的曝光装置，其特征在于，还包括晶圆盒单元，用于存放晶圆；提取单元，用于提取晶圆；预对准单元，用于将提取的晶圆进行对位；曝光单元，通过正六边形的匀光石英棒和掩模将对准后的晶圆进行曝光。

7.如权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，所述提取单元为旋转机械手。

8.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述晶圆为蓝宝石衬底或硅衬底或锗硅衬底。

9.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述照明系统，还依次包括光源、聚光单元、中继单元，所述匀光单元位于所述聚光单元与所述中继单元之间。

10.如权利要求9所述的曝光装置，其特征在于，所述照明系统，还包括设置在所述匀光单元与所述中继单元之间的可动刀口，用于开启或关闭光源以及调节光源经聚光单元的照射视场大小。

11.一种曝光方法，其特征在于，至少包括以下步骤：将照明系统的匀光单元中的匀光石英棒设计成正六边形形状，将掩模的形状设计成与所述匀光石英棒相匹配的正六边形的步骤进行曝光。

12.如权利要求11所述的曝光方法，其特征在于，在曝光步骤之后，还增加了泛曝光的步骤，使经过泛曝光的图形变成规则的柱形形状。

13.如权利要求11所述的曝光方法，其特征在于，所述曝光方法，至少包括以下步骤：提取步骤，用于提取晶圆；预对准步骤；将晶圆进行对位；曝光步骤，通过正六边形的匀光石英棒和掩模将对准后的晶圆进行曝光。

14.如权利要求11所述的曝光方法，其特征在于，在曝光时，采用对晶圆的表面形貌特征进行连续多次测量后，然后一次性对晶圆进行曝光的步骤。

15.如权利要求14所述的曝光方法，其特征在于，所述测量的具体步骤为：采用垂向测量装置连续多次测量晶圆的表面形貌特征，将载片运动台与所述垂向测量装置的测量结果进行匹配，拟合并计算出每一个视场相对于最佳焦面的倾斜度。

16.如权利要求14所述的曝光方法，其特征在于，所述曝光的具体步骤为：通过载片运动台的垂向传感器控制晶圆的最佳焦面，一次性的进行步进曝光。