[发明专利]一种纳米陶瓷结构及其制备工艺

权利要求书

1.一种纳米陶瓷结构，其特征在于：应用于电器、电子、厨卫、建筑行业，包括坯体层、釉料层、工艺画层和纳米粉层，所述釉料层通过静电喷涂/筛粉涂搪/湿法流搪/湿法喷涂方式涂搪在所述坯体层上，且贴覆有所述工艺画层，并将所述纳米粉层喷涂在其上。

2.根据权利要求1所述的纳米陶瓷结构，其特征在于：所述坯体层为电器制品、厨卫制品、建筑材料制品或电子元件。

3.根据权利要求1所述的纳米陶瓷结构，其特征在于：所述釉料层由各组分按以下重量百分比混合制得：60～80wt％的陶瓷粉料、5～20wt％的玻璃粉料、3～15wt％的胶合剂、1～15wt％的硼砂、1～5wt％的纯碱的瓷釉粉料在230-800℃的温度下3-5分钟烧结而成。

4.根据权利要求3所述的纳米陶瓷结构，其特征在于：所述釉料层由各组分按以下重量百分比混合制得：55～70wt％的陶瓷粉料、3～12wt％的玻璃粉料、5～12wt％的胶合剂、1～3wt％的硼砂、1～3wt％的纯碱的瓷釉粉料在600℃的温度下4分钟烧结而成。

5.根据权利要求1或2所述的纳米陶瓷结构，其特征在于：所述坯体层由铝合金、金属铁、不锈钢、铸铁材料制作而成。

6.一种制备权利要求1至4任意一项所述纳米陶瓷结构的制备工艺，其特征在于：包括以下步骤：

步骤1）将以上所述瓷釉粉料与水混合制得釉浆，得到釉料层，再将所述釉料层涂搪在坯体层上，得到预处理坯体；

步骤2）在预处理坯体表面上喷涂艺术涂料或贴覆工艺绘画，形成工艺画层，得到陶瓷半成品；

步骤3）在陶瓷半成品喷涂陶瓷纳米粉，形成纳米粉层，经过200℃~800℃高温炉烘烤。

7.根据权利要求6所述的纳米陶瓷结构制备工艺，其特征在于：步骤3）中，在金属制品为铝合金时，陶瓷半成品表面经过230℃高温炉烘烤后，得到5H的硬度。

8.根据权利要求6所述的纳米陶瓷结构制备工艺，其特征在于：步骤3）中，在金属制品为的金属铁/不锈钢/铸铁，采用高温等离子对其进行喷涂，再经过800℃高温炉3分钟，陶瓷半成品表面达到9H的硬度。

9.根据权利要求6所述的纳米陶瓷结构制备工艺，其特征在于：所述陶瓷纳米粉为氟硅钠复合掺杂HA陶瓷纳米粉。