[发明专利]滑动部件、处理盒、以及成像装置有效
| 申请号: | 201510400891.4 | 申请日: | 2015-07-09 |
| 公开(公告)号: | CN105739272B | 公开(公告)日: | 2018-09-28 |
| 发明(设计)人: | 中村优;太野大介;小野雅人;田中大辅;濑古真路 | 申请(专利权)人: | 富士施乐株式会社 |
| 主分类号: | G03G21/00 | 分类号: | G03G21/00;G03G21/18 |
| 代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 常海涛;高钊 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 滑动 部件 处理 以及 成像 装置 | ||
1.一种滑动部件,包括:
基材,其包括与被滑动部件接触的接触区域,
其中,自所述接触区域的表面起的所述接触区域的厚度中的杨氏模量E1为10MPa至200,000MPa,并且
所述接触区域的厚度T为10nm至500nm,
其中在自所述接触区域的表面起的距离超过所述接触区域的厚度的位置处所述基材的杨氏模量E2为1MPa至500MPa,并且
所述杨氏模量E1和所述杨氏模量E2满足关系式E2<E1。
2.根据权利要求1所述的滑动部件,
其中自所述接触区域的表面起的所述接触区域的厚度中的杨氏模量E1为30MPa至9,000MPa。
3.根据权利要求1所述的滑动部件,
其中所述接触区域的厚度T为150nm至300nm。
4.根据权利要求1所述的滑动部件,
其中在自所述接触区域的表面起的距离超过所述接触区域的厚度的位置处所述基材的杨氏模量E2为8MPa至50MPa。
5.根据权利要求1所述的滑动部件,
其中包括所述接触区域的所述基材在该基材的全部区域中均包含树脂。
6.根据权利要求5所述的滑动部件,
其中所述基材的所述接触区域为含有树脂以及具有sp3键的碳的含碳区域。
7.根据权利要求1所述的滑动部件,还包括含有具有sp3键的碳而不含有树脂的碳层,
其中所述碳层与含有树脂以及具有sp3键的碳的含碳区域共同构成与被滑动部件接触的接触区域,
所述碳层设置在所述含碳区域的与所述被滑动部件接触的一侧的表面上。
8.根据权利要求1所述的滑动部件,其为在所述被滑动部件上滑动并且清洁所述被滑动部件的表面的清洁部件。
9.一种处理盒,其能够从成像装置上自由地拆卸下来,包括清洁装置,该清洁装置包括根据权利要求8所述的滑动部件。
10.一种成像装置,包括:
图像保持部件;
对所述图像保持部件充电的充电装置;
在充电后的图像保持部件的表面上形成静电潜像的静电潜像形成装置;
利用调色剂将在所述图像保持部件表面上所形成的所述静电潜像显影以形成调色剂图像的显影装置;
中间转印介质,形成于所述图像保持部件上的所述调色剂图像被转印至该中间转印介质上;
将形成于所述图像保持部件上的所述调色剂图像一次转印至所述中间转印介质的表面上的一次转印装置;
将已转印至所述中间转印介质上的所述调色剂图像二次转印至记录介质上的二次转印装置;以及
清洁装置,其包括根据权利要求8所述的滑动部件,并且在通过所述二次转印装置将所述调色剂图像转印之后,该清洁装置对所述中间转印介质的表面进行清洁。
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