[发明专利]一种太赫兹辐射转换为红外辐射的器件结构在审
| 申请号: | 201510392318.3 | 申请日: | 2015-07-06 |
| 公开(公告)号: | CN104993008A | 公开(公告)日: | 2015-10-21 |
| 发明(设计)人: | 王军;唐荣;陈沛成;谢盼云;吴雪飞;吴志明 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
| 主分类号: | H01L31/101 | 分类号: | H01L31/101;H01L31/0352 |
| 代理公司: | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人: | 李明光 |
| 地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 赫兹 辐射 转换 红外 器件 结构 | ||
1.一种太赫兹辐射转换为红外辐射的器件结构,其特征在于,该器件结构包括透明衬底、透明衬底上依次设置的红外发射层、金属反射层和吸收层;所述吸收层由若干个“十”字型吸收单元周期性排列构成,每个吸收单元由相互交替设置的介质层和金属图形层构成,吸收单元顶层为金属图形层、与金属反射层之间为介质层。
2.按权利要求1所述太赫兹辐射转换为红外辐射的器件结构,其特征在于,所述吸收单元中,每层金属图形层形状相同,尺寸不同。
3.按权利要求1所述太赫兹辐射转换为红外辐射的器件结构,其特征在于,所述吸收单元的尺寸为10~30μm,线宽为1~3μm。
4.按权利要求1所述太赫兹辐射转换为红外辐射的器件结构,其特征在于,所述吸收单元中金属图形层数目大于等于3;金属图形层材料为金、银或铝,每层厚度为50~200nm;介质层材料为氮化硅、氧化硅或聚酰亚胺,每层厚度为1-3μm。
5.按权利要求1所述太赫兹辐射转换为红外辐射的器件结构,其特征在于,所述金属反射层材料为金、银或铝,厚度为50~200nm。
6.按权利要求1所述太赫兹辐射转换为红外辐射的器件结构,其特征在于,所述红外发射层材料为石墨,厚度为5~10μm。
7.按权利要求1所述太赫兹辐射转换为红外辐射的器件结构,其特征在于,所述透明衬底为玻璃或聚合物膜。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学,未经电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510392318.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





