[发明专利]显示基板及其制造方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括：

衬底基板；

所述衬底基板的显示区域上形成有至少一个像素单元；

每个所述像素单元包括：显色结构、设置在所述显色结构四周的第一反光结构、设置在所述显色结构的至少两个相对的侧面且位于所述第一反光结构远离所述显色结构的一侧的阻隔结构，以及设置在所述阻隔结构上的反光层；

所述反光层上对应每个所述像素单元形成有至少一个透光区域和第二反光结构，所述透光区域在所述衬底基板上的正投影落在所述第一反光结构在所述衬底基板上的正投影内，所述显色结构在所述衬底基板上的正投影落在所述第二反光结构在所述衬底基板上的正投影内；

其中，在每个所述像素单元中，由所述显色结构、所述第一反光结构、所述阻隔结构和所述反光层围成空腔。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，

所述衬底基板的周边区域形成有聚光层，所述周边区域是所述衬底基板上除所述显示区域之外的区域。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，

形成有所述聚光层的衬底基板的显示区域上形成有多条间隔设置的横向黑矩阵和多条间隔设置的纵向黑矩阵，所述横向黑矩阵和所述纵向黑矩阵同层且交叉设置，且相邻的两条所述横向黑矩阵与相邻的两条所述纵向黑矩阵能够围成开口区域；

所述开口区域上形成有透明电极；

每个所述透明电极上形成有至少一个所述显色结构；

每条所述纵向黑矩阵上形成有所述阻隔结构和至少一个所述第一反光结构；和/或，每条所述横向黑矩阵上形成有所述阻隔结构和至少一个所述第一反光结构。

4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，

所述反光层由多个长条状的反光层构成，每个所述长条状的反光层上对应每个所述像素单元形成有至少一个所述透光区域和所述第二反光结构；

所述透明电极为长条状结构，所述透明电极位于每两条相邻的所述纵向黑矩阵之间，或者，所述透明电极位于每两条相邻的所述横向黑矩阵之间，每个所述长条状的反光层的长度方向与所述透明电极的长度方向垂直。

5.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，

当所述第一反光结构设置在所述纵向黑矩阵上时，所述第一反光结构的反光面与所述纵向黑矩阵的表面之间的夹角的范围为20°～70°；

当所述第一反光结构设置在所述横向黑矩阵上时，所述第一反光结构的反光面与所述横向黑矩阵的表面之间的夹角的范围为20°～70°。

6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，

所述第一反光结构通过构图工艺在所述衬底基板上形成；

所述显色结构和所述阻隔结构都采用树脂形成；

所述反光层为反光薄膜，采用反光材料形成。

7.一种显示基板的制造方法，其特征在于，所述显示基板包括权利要求1至6任一所述的显示基板，所述显示基板包括：衬底基板，所述方法包括：

在所述衬底基板的显示区域上形成至少一个像素单元；

每个所述像素单元包括：显色结构、设置在所述显色结构四周的第一反光结构、设置在所述显色结构的至少两个相对的侧面且位于所述第一反光结构远离所述显色结构的一侧的阻隔结构，以及设置在所述阻隔结构上的反光层；

所述反光层上对应每个所述像素单元形成有至少一个透光区域和第二反光结构，所述透光区域在所述衬底基板上的正投影落在所述第一反光结构在所述衬底基板上的正投影内，所述显色结构在所述衬底基板上的正投影落在所述第二反光结构在所述衬底基板上的正投影内；

其中，在每个所述像素单元中，由所述显色结构、所述第一反光结构、所述阻隔结构和所述反光层围成空腔。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，

在所述衬底基板的显示区域上形成至少一个像素单元之前，所述方法还包括：

在所述衬底基板的周边区域形成聚光层，所述周边区域是所述衬底基板上除所述显示区域之外的区域。