[发明专利]烘烤装置和光刻胶层的硬化方法

权利要求书

1.一种烘烤装置，包括：

用于放置带有薄膜层和待硬化的光刻胶层的基板的平面；以及

与所述基板相对的用于加热所述光刻胶层的加热板；

其中，所述加热板的中央部位的温度设置成高于所述加热板的周边部位的温度。

2.根据权利要求1所述的烘烤装置，其特征在于，所述加热板包括多个依次套接的同心的热框和设置在最内部的所述热框内的热块，其中所述热块的温度最高，各所述热框的温度沿着由内向外的方向依次降低。

3.根据权利要求2所述的烘烤装置，其特征在于，所述加热板的形状与所述基板的形状相适配。

4.根据权利要求3所述的烘烤装置，其特征在于，所述热块的形状为矩形，各所述热框的形状均为矩形环形。

5.根据权利要求3所述的烘烤装置，其特征在于，任意两个相邻的所述热框间的间距均不大于2mm，最内部的所述热框与热块之间的间距不大于2mm。

6.根据权利要求3到5中任一项所述的烘烤装置，其特征在于，各所述热框的宽度由内向外依次增加。

7.根据权利要求3到5中任一项所述的烘烤装置，其特征在于，根据所述基板的尺寸将所述热框的数量设为五个，且每一所述热框均具有相同的宽度。

8.根据权利要求3或5中任一项所述的烘烤装置，其特征在于，最外部的所述热框的外边缘所形成的封闭图形能够容纳所述光刻胶层在所述加热板上的正投影。

9.根据权利要求2所述的烘烤装置，其特征在于，所述热块和每一个所述热框内都设有均匀分布的加热构件。

10.一种光刻胶层的硬化方法，所述硬化方法包括通过根据权利要求1到9中任一项所述的烘烤装置对基板上的待硬化的光刻胶层进行加热，以使所述光刻胶层变硬。