[发明专利]一种基于压缩感知的空域小样本的天线阵列校正方法有效

专利信息
申请号: 201510357538.2 申请日: 2015-06-25
公开(公告)号: CN105044490B 公开(公告)日: 2018-06-12
发明(设计)人: 庄杰;刘杰;蔡翔林;庞宏 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H04B17/12 分类号: H04B17/12
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 邹裕蓉
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 天线平台 天线阵列 阵列流型 可旋转 空域 校正 天线校正 压缩感知 小样本 向量 压缩感知算法 传感器组成 正弦波信号 采样矩阵 次数累计 随机产生 位置数据 向量计算 远场信号 阵列接收 采样点 发射源 方位角 俯仰角 稀疏性 采样 列阵 流型 时域 样本 恢复 发射
【说明书】:

发明一种基于压缩感知的空域小样本的天线阵列校正方法,其特征在于,包括:固定一个远场信号发射源,以指定的频率向可旋转天线平台发射正弦波信号;可旋转天线平台包含1个由N个传感器组成的列阵,可旋转天线平台在指定范围内随机产生第q组俯仰角θ和方位角φ的位置数据;可旋转天线平台旋转到位置(θqq)后,打开N路阵列接收通道,采样K个信号快拍,进行1次计算得到阵列流型向量;阵列流型向量计算次数累计达到Q次,则利用Q个阵列流型向量采用压缩感知算法恢复采样矩阵G完成天线校正。本发明利用天线阵列流型在时域上的稀疏性,在空域收集少量样本即可精确恢复出阵列流型模型,完成天线校正,能够显著地降低校正天线阵列所需的空域采样点。

技术领域

本发明涉及天线阵列校正技术。

背景技术

早期的阵列校正是通过对阵列流型直接进行离散测量、内插、存储来实现的,但这些方法实现代价较大且效果不太明显。因此,20世纪90年代以后人们通过对阵列扰动进行建模,将阵列误差校正逐渐转化为一参数估计问题。参数类的阵列校正方法通常可以分为有源校正类和自校正类,但是这些方法很难对多种形式的误差进行统一校正。

在实际工程应用中通常遇到的阵列误差形式有:阵元方向图误差、阵元通道幅相误差、阵元互耦以及阵元位置误差等。

在文献[1]M.Landmann,A.Richter,and R.S.Thoma,“DoA resolution limits inMIMO channel sounding,”in International Symposium on Antennas and Propagationand USNC/URSI National Radio Science Meeting,2004中,提出了有效孔径分布函数(EADF,Effective Aperture Distribution Function)的天线阵列校正的方法。

在文献[2]M.Costa,A.Richter,and V.Koivunen,“Low complexity azimuth andelevation estimation for arbitrary array configurations,”in Proc.IEEEInt.Conf.Acoust.Speech Signal Process,pp.2185–2188,2009中,对文献[1]天线校正方法进行了改进。该文献假设有P个非相干窄带信号发射源,1个有N个传感器的阵列,各个传感器的俯仰角和方位角参数如下:(θ,φ)={(θ11)...,(θpp)},其中θ为传感器的俯仰角且满足θ∈[0,180°],φ为方位角且满足φ∈[0,360°),那么,获得的数据可由下式给出:X=A(θ,φ)S+N,其中代表阵列流型(也可称为导向向量)矩阵,是信号矩阵,代表测量噪声,该噪声是二阶遍历零均值高斯白噪声,表示一个复数集合,N表示阵列的天线数,P表示信源个数,K表示接收的快拍数;

假设从测量矩阵所得的阵列流形如下:其中,分别代表测量时的俯仰角、方位角的角度参数,Αncc)代表测量的阵列流型矩阵,Qe表示一个俯仰角上的采样点总数,Qa表示表示一个方位角上的采样点总数,表示实数集合。

作者将目标在二维空域上进行分割,俯仰角和方位角各自均分为60点即Qe=Qa=60进行数据采集,共进行60×60=3600次数据采集,获得阵列流型由于θ∈[0,180°,]不是以360°为周期的,不符合FFT的要求,因此需要周期化。

为满足FFT的要求,矩阵Αncc)平移180°再翻转,并截掉首尾两行,得到矩阵将矩阵Αncc)和重叠,构造出如下矩阵:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学,未经电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510357538.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top