[发明专利]一种研究表面的多步方法及其对应设备有效

专利信息
申请号: 201510352841.3 申请日: 2015-06-24
公开(公告)号: CN105277558B 公开(公告)日: 2021-03-09
发明(设计)人: 克里斯多佛·格罗 申请(专利权)人: 毕克-加特纳有限责任公司
主分类号: G01N21/84 分类号: G01N21/84;G01B11/24
代理公司: 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 代理人: 高占元
地址: 德国盖雷茨里*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 一种 研究 表面 方法 及其 对应 设备
【权利要求书】:

1.一种确定表面性质的多步方法,包括以下步骤:

在第一方法步骤中,确定将要被研究的表面(10)的至少一个区域的至少一个表面形貌性质,即分析垂直位置h(x,y)和/或所述将要被研究的表面(10)的单个区域的曲率和/或曲率变化;为了确定所述表面形貌性质,采用第一辐射装置(2)从至少两个不同的方向照明所述将要被研究的表面(10),并且所述方向与和所述将要被研究的表面(10)垂直的表面或与所述将要被研究的表面(10)成直角的方向成一角度,所述角度范围为45°到75°之间;所述将要被研究的表面(10)的至少两个区域通过在所述至少两个区域上不同的至少一个阈值高度在高度上定义为不同的和/或所述将要被研究的表面(10)的至少两个区域通过在所述至少两个区域上不同的至少一个曲率阈值在曲率上定义为不同的和/或所述将要被研究的表面(10)的至少两个区域通过在所述至少两个区域上不同的至少一个曲率变化阈值在曲率变化上定义为不同的;所述将要被研究的表面(10)的组成部分基于他们的确定的表面形貌性质相对于所述至少一个阈值高度和/或曲率和/或曲率变化在所述至少两个区域中的一个中区分;

在第二方法步骤中,确定所述将要被研究的表面(10)的所述至少一个区域的光学性质,并且发出表征所述光学性质的至少一个值,其中为了确定所述光学性质,采用第二辐射装置(6)将辐射引导到所述将要被研究的表面(10),并且通过辐射检测装置(4)测量所述将要被研究的表面(10)的反射和/或散射的辐射,其中所述第一辐射装置(2)从不同于所述第二辐射装置(6)的角度引导辐射到所述将要被研究的表面(10),仅在第二方法步骤中评价所述将要被研究的表面(10)的这些区域,这些区域的表面形貌性质分别对应于第一方法步骤中预设的条件范围;

其特征在于,当确定表征所述光学性质的所述至少一个值时,考虑所述至少一个区域的所述表面形貌性质;数学地比较所述将要被研究的表面(10)的所述至少两个区域的所述光学性质;所述辐射检测装置(4)记录所述将要被研究的表面(10)的空间解析图像。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,确定所述将要被研究的表面的所述至少一个区域中的至少一个的所述光学性质。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,以取决于表征所述将要被研究的表面(10)的所述表面形貌性质的至少一个测量值的方式定义所述光学性质的所述研究的测量区域。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,为了确定所述表面形貌性质,通过所述第一辐射装置(2)将辐射引导到所述将要被研究的表面(10),且通过辐射检测装置(4)检测所述将要被研究的表面(10)反射和/或散射的辐射。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,同一辐射检测装置(4)用于确定所述光学性质和用于确定所述表面形貌性质。

6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,评价所述将要被研究的表面(10)的同一图像以确定所述光学性质和用于确定所述表面形貌性质。

7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,执行所述表面形貌性质测量的图像和所述光学性质测量的图像的空间的逐个像素的分配。

8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述空间解析图像划分为多个图像区段,且所述图像区段的至少一部分分配给第一区域而且所述图像区段的至少一部分分配给第二区域。

9.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,为了确定所述表面形貌性质,将辐射以相对于与所述将要被研究的表面(10)成直角的方向成一角度引导到所述将要被研究的表面(10),所述角度小于10°。

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