[发明专利]将涂膜施加到透镜基底表面上的方法在审
申请号: | 201510337969.2 | 申请日: | 2008-07-24 |
公开(公告)号: | CN105015000A | 公开(公告)日: | 2015-11-04 |
发明(设计)人: | A·格拉塞;P·江;S·韦伯 | 申请(专利权)人: | 埃西勒国际通用光学公司 |
主分类号: | B29D11/00 | 分类号: | B29D11/00 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 李颖;林柏楠 |
地址: | 法国沙*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 将涂膜 施加 透镜 基底 表面上 方法 | ||
本申请是申请号为200880115680.4的发明专利申请的分案申请,原申请的申请日为2008年7月24日,发明名称为“将涂膜施加到透镜基底表面上的方法”。
技术领域
本发明涉及将涂敷或未涂敷的薄膜施加到透镜基底的第一主表面上的改进的工艺或方法,其可以在透镜基底无任何变形危险的情况下在短时间内完成并避免与透镜基底的第一主表面相反的第二主表面所带的温度敏感性涂层的过热。该方法结合使用独特的加热和紫外线作为粘合剂的活化步骤。
发明背景
用几个赋予最终透镜附加和/或改进的光学或机械性质的涂层涂敷透镜基底(如眼用透镜或透镜坯)的至少一个主表面是本领域的常规做法。
因此,一般做法是从透镜基底的主表面开始,依次用耐冲击涂层(耐冲击底漆)、耐磨和/或耐划伤涂层(硬涂层)、抗反射涂层、抗静电涂层和任选疏水外涂层涂敷通常由有机玻璃材料制成的透镜基底的至少一个主表面。也可以在透镜基底的一个或两个主表面上施加其它涂层,如偏光涂层、光致变色涂层、电致变色涂层、染色涂层或微结构化涂层。
已经提出并公开了许多用于涂敷眼用透镜表面的工艺和方法。
美国专利No.6,562,466描述了将涂层从至少一个模具部件转移到透镜坯的至少一个几何限定表面上的工艺或方法,其包括:
-提供具有至少一个几何限定表面的透镜坯;
-提供具有带涂层的内表面和外表面的载体或模具部件;
-在所述透镜坯的所述几何限定表面上或在所述涂层上沉积预测量的可固化粘合剂组合物;
-使透镜坯和载体相对于彼此移动以使所述涂层与可固化粘合剂组合物接触或使所述可固化粘合剂组合物与透镜坯的几何限定表面接触;
-在载体外表面上施加足够压力,以使最终固化粘合层的厚度小于100微米;
-固化该粘合剂组合物层;以及
-移除载体或模具部件以回收具有粘着到透镜坯的几何限定表面上的涂层的透镜坯。
在美国专利No.6,562,466的方法中,使用光或热固化粘合剂以便将涂层从载体转移到透镜基底的表面上。该粘合剂需要既粘结到载体上的暴露薄膜上,又粘结到透镜基底的表面上。
2005年2月1日以ESSILOR INTERNATIONAL(COMPAGNIE GENERALE D'OPTIQUE)的名义提交的国际专利申请WO 2006082105(经此引用并入本文)公开了将涂敷或未涂敷的薄膜施加到透镜基底的至少一个主表面上的方法,包括下列步骤:
(a)提供具有主表面的透镜基底;
(b)提供涂敷或未涂敷的薄膜;
(c)在所述涂敷或未涂敷的薄膜的任一面或透镜基底的所述主表面之一上形成干胶乳层;
(d)在透镜基底的所述主表面之一、所述涂敷或未涂敷的薄膜的面或干胶乳层的暴露表面上沉积至少一滴水基活化液体;
(e)使所述涂敷或未涂敷的薄膜和透镜基底相对于彼此移动并对所述涂敷或未涂敷的薄膜施加足够的力以使水基活化液体铺展开并在干胶乳层与透镜基底或所述涂敷或未涂敷的薄膜之间形成水基活化液体薄膜;
(f)加热该水基活化液体薄膜和干胶乳层;
(g)释放外加力;和
(h)回收透镜基底,在透镜基底主表面上粘着有所述涂敷或未涂敷的薄膜。
优选地,在高于干胶乳层的“发粘”温度的温度下进行加热步骤(f)。“发粘”温度是干胶乳层变粘时的温度。
通常,在40℃至130℃,优选50℃至120℃的温度下进行加热步骤(f)。
在国际专利申请WO 2006082105中,加热源可以是空气烘箱、热水浴、红外源或微波源。但是,该文献没有给出关于微波加热和如何获得基本仅局限在所述涂敷或未涂敷的薄膜和透镜基底区域的受控加热的任何信息,特别是在使用可膨胀膜装置实施该方法时。
ESSILOR INTERNATIONAL(COMPAGNIE GENERALE D'OPTIQUE)的公开的国际专利申请WO 03/004255和WO 07/020236中特别公开了用于实施涂敷的可膨胀膜装置,两者都经此引用并入本文。
实际上通常通过将包括加压装置、薄膜、可热活化粘合剂层和透镜基底的整个系统放入常规对流炉中来进行加热步骤,并且加热在通常设定在大约110℃的温度下持续大约30分钟。
这些加热程序的缺点在于耗能,因为加热整个系统而且需要长加热时间来完成该过程,例如大约30分钟。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于埃西勒国际通用光学公司,未经埃西勒国际通用光学公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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