[发明专利]具有黑色矩阵的玻璃基板及其制备方法、液晶面板

权利要求书

1.一种具有黑色矩阵的玻璃基板，包括玻璃基板以及形成于玻璃基板上的黑色矩阵阵列，其特征在于，所述黑色矩阵的厚度呈中间向两端逐渐递减。

2.根据权利要求1所述的具有黑色矩阵的玻璃基板，其特征在于，所述黑色矩阵的厚度呈中间向两端连续地逐渐递减。

3.如权利要求1或2所述的具有黑色矩阵的玻璃基板的制备方法，其特征在于，包括步骤：

S101、提供一玻璃基板并在该玻璃基板上形成一黑色矩阵薄膜层；

S102、对所述黑色矩阵薄膜层进行曝光工艺和显影工艺，获得所述黑色矩阵阵列；其中，在进行曝光工艺时，曝光光罩对应于每一黑色矩阵的曝光区域，其曝光量呈中间向两端逐渐递减。

4.根据权利要求3所述的具有黑色矩阵的玻璃基板的制备方法，其特征在于，所述曝光区域从中间向两端依次划分为第1至第n区域，其中，第1至第n区域对应的曝光光源的光强逐渐递减，n为大于1的整数。

5.根据权利要求4所述的具有黑色矩阵的玻璃基板的制备方法，其特征在于，第n区域的曝光光源的光强为第1区域的40％，第1至第n区域对应的曝光光源的光强呈等差逐渐递减。

6.根据权利要求3所述的具有黑色矩阵的玻璃基板的制备方法，其特征在于，所述曝光区域从中间向两端依次划分为第1至第n区域，其中，第1至第n区域包括具有不同光线透过率的透光材料，第1至第n区域对应的透光材料的光线透过率逐渐递减，n为大于1的整数。

7.根据权利要求6所述的具有黑色矩阵的玻璃基板的制备方法，其特征在于，第n区域的透光材料的光线透过率为第1区域的40％，第1至第n区域对应的透光材料的光线透过率呈等差逐渐递减。

8.根据权利要求3所述的具有黑色矩阵的玻璃基板的制备方法，其特征在于，所述曝光区域从中间向两端依次划分为第1至第n区域，其中，第1至第n区域包括透光部和非透光部，第1至第n区域对应的透光部的面积逐渐递减，n为大于1的整数。

9.根据权利要求8所述的具有黑色矩阵的玻璃基板的制备方法，其特征在于，第n区域的透光部的面积为第1区域的40％，第1至第n区域对应的透光部的面积呈等差逐渐递减。

10.一种液晶面板，包括相对设置的第一玻璃基板和第二玻璃基板以及位于所述第一玻璃基板和第二玻璃基板之间的液晶层，其特征在于，所述第一玻璃基板为如权利要求1或2所述的具有黑色矩阵的玻璃基板，所述第二玻璃基板为具有彩色滤光片的薄膜晶体管阵列基板。