[发明专利]一种镉镀层的退除方法在审
| 申请号： | 201510334516.4 | 申请日： | 2015-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN104846385A | 公开（公告）日： | 2015-08-19 |
| 发明（设计）人： | 于海;杨波;于宽深 | 申请（专利权）人： | 沈阳飞机工业（集团）有限公司 |
| 主分类号： | C23G1/02 | 分类号： | C23G1/02 |
| 代理公司： | 沈阳杰克知识产权代理有限公司 21207 | 代理人： | 郑贤明 |
| 地址： | 110034 *** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 镀层 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种镉镀层的退除方法，其特征在于，步骤如下；
（1）按如下浓度配制退膜溶液：
铬酐（CrO3） 80~120g/L
硫酸（H2SO4） 3~4g/L；
具体过程为：
（a）选择预设的浓度，计算需要添加铬酐、硫酸及水的重量；
（b）向溶解槽内注入2/3预设溶液体积的水；
（c）边搅拌边加入铬酐，至铬酐完全溶解；
（d）加水至预设溶液的体积；
（e）边搅拌边加入硫酸，搅拌均匀；
（2）将待处理工件放入退膜溶液，退膜速率在3~5μm/h；温度为室温。
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