[发明专利]一种摆动式盛装蚀刻液的设备有效
申请号: | 201510332189.9 | 申请日: | 2015-06-16 |
公开(公告)号: | CN104878386B | 公开(公告)日: | 2017-12-01 |
发明(设计)人: | 韦建敏;赵兴文;张晓蓓;张小波 | 申请(专利权)人: | 成都虹华环保科技股份有限公司 |
主分类号: | C23F1/08 | 分类号: | C23F1/08 |
代理公司: | 成都金英专利代理事务所(普通合伙)51218 | 代理人: | 袁英 |
地址: | 610000 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 摆动 盛装 蚀刻 设备 | ||
技术领域
本发明涉及防止蚀刻液产生沉淀的技术领域,特别是一种摆动式盛装蚀刻液的设备。
背景技术
目前,电路板在蚀刻过程中,蚀刻液腐蚀电路板上的铜条,随着铜材料的不断溶解,溶液的比重不断升高,当比重超过一定值后,自动补偿氯化铵和氨水体系的蚀刻液,调整比重到合适的范围。一般比重控制在18~240Be。溶液PH值的影响蚀刻液的PH值应保持在8.0~8.8之间。
当蚀刻液的PH值降低到8.0以下时,一方面是对金属抗蚀层不利,另一方面,蚀刻液中的铜不能完全络合成铜氨络离子,溶液会出现沉淀,并在槽底形成泥状沉淀,这些沉淀能够在加热器上结成硬皮,可能损坏加热器,还会堵塞泵和喷嘴,给蚀刻造成困难。只有不断的搅拌蚀刻液使蚀刻液不断的运动,以防止溶液出现沉淀,当需要使用蚀刻液蚀刻电路板时,放出蚀刻液即可,目前,大多数采用搅拌器搅拌蚀刻液,然而该搅拌器结构复杂,其上的搅拌叶片溶液被蚀刻液腐蚀,不推广使用。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的缺点,提供一种结构紧凑、制造成本低、操作简单、能够有效避免蚀刻液产生沉淀的摆动式盛装蚀刻液的设备。
本发明的目的通过以下技术方案来实现:一种摆动式盛装蚀刻液的设备,它包括机座、油缸和储罐,所述的机座上设置有垂直于机座的立柱A和立柱B,所述的储罐的两侧分别设置有转轴I和转轴II,转轴I和转轴II分别旋转安装在立柱A和立柱B上,所述的储罐内设置有用于盛装蚀刻液的型腔,储罐的顶部、底部分别设置有进液口、出液口,进液口和出液口均与型腔连通,所述的储罐的两个侧壁上均设置有多个与型腔连通的进气口,所述的机座上还设置有机架,机架上设置有平台,平台上固定安装有垂直于转轴I的油缸,油缸的活塞杆铰接在储罐的后端部。
它还包括控制器,所述的控制器与油缸连接。
所述的进液口和出液口处均连接有截至阀。
所述的转轴I和转轴II对称设置。
本发明具有以下优点:本发明的储罐的两个侧壁上均设置有多个与型腔连通的进气口,经进气口向储罐内通入洁净的高压空气,高压空气推动蚀刻液在型腔内做不规则的往复运动,并结合油缸推动储罐使储罐内的蚀刻液做摆动,从而蚀刻液始终处于运动状态,有效避免了蚀刻液产生沉淀。
附图说明
图1 为本发明的结构示意图;
图2 为图1的A-A剖视图;
图中,1-机座,2-油缸,3-储罐,4-立柱A,5-立柱B,6-转轴I,7-转轴II,8-型腔,9-进液口,10-出液口,11-进气口,12-截至阀,13-机架,14-平台。
具体实施方式
下面结合附图对本发明做进一步的描述,本发明的保护范围不局限于以下所述:
如图1和图2所示,一种摆动式盛装蚀刻液的设备,它包括机座1、油缸2和储罐3,所述的机座1上设置有垂直于机座1的立柱A4和立柱B5,所述的储罐3的两侧分别设置有转轴I6和转轴II7,转轴I6和转轴II7对称设置,转轴I6和转轴II7分别旋转安装在立柱A4和立柱B5上,所述的储罐3内设置有用于盛装蚀刻液的型腔8,储罐3的顶部、底部分别设置有进液口9、出液口10,进液口9和出液口10均与型腔8连通,所述的进液口9和出液口10处均连接有截止阀12,所述的储罐3的两个侧壁上均设置有多个与型腔8连通的进气口11。如图2所示,机座1上还设置有机架13,机架13上设置有平台14,平台14上固定安装有垂直于转轴I6的油缸2,油缸2的活塞杆铰接在储罐3的后端部。
它还包括控制器,所述的控制器与油缸2连接,控制器能够控制油缸2的活塞杆往复的伸出或缩回。
本发明的工作过程如下:先打开进液口9处的截止阀12,往型腔8内注入一定量的蚀刻液随后关闭该截止阀12,再控制油缸2做往复的伸出或缩回的运动,油缸2带动储罐3以转轴I和转轴II为圆心做摆动,同时经进气口11向储罐3内通入洁净的高压空气,高压空气推动蚀刻液在型腔8内做不规则的往复运动,并结合储罐的摆动,使蚀刻液始终处于运动状态,有效避免了蚀刻液产生沉淀。当要取用蚀刻液时,只需停止油缸2,打开出液口10处的截止阀12,将蚀刻液放出。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当理解本发明并非局限于本文所披露的形式,不应看作是对其他实施例的排除,而可用于各种其他组合、修改和环境,并能够在本文所述构想范围内,通过上述教导或相关领域的技术或知识进行改动。而本领域人员所进行的改动和变化不脱离本发明的精神和范围,则都应在本发明所附权利要求的保护范围内。
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