[发明专利]利用灰度曝光生成微纳尺寸微型照片的方法在审

专利信息
申请号: 201510322327.5 申请日: 2015-06-13
公开(公告)号: CN105000531A 公开(公告)日: 2015-10-28
发明(设计)人: 陈宜方;徐晨 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人: 陆飞;盛志范
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 利用 灰度 曝光 生成 尺寸 微型 照片 方法
【权利要求书】:

1.利用灰度曝光生成微纳尺寸微型照片的方法,其特征在于具体步骤如下:

(1)利用Beamer软件形成曝光文件;

(2)清洗硅衬底,在衬底上旋涂2-5微米厚的PMMA胶,并烘烤使之硬化,烘烤温度为170-190摄氏度,时间为30-60分钟;

(3)使用电子束光刻机对于设计好的图形进行曝光;

(4)在22-24摄氏度的1:1-1:3的MIBK与IPA溶液中显影1-5分钟,随后立刻在IPA溶液中冲洗30-60秒。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于步骤(3)中,电子束光刻机的光刻剂量在对比度曲线趋近直线处。

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