[发明专利]用于制备合成石英玻璃衬底的方法

权利要求书

1.制备用于纳米压印光刻掩模衬底或光掩模衬底的合成石英玻璃衬底的方法，包括以下步骤：

提供具有四棱柱形状的合成石英玻璃砖，

用液体涂覆所述砖的任意表面和相对表面组成的两个表面，所述液体在双折射测量的波长下具有至少99.0％/mm的透射率，

通过使光进入一个经涂覆的表面并离开另一经涂覆的表面测量所述砖的双折射，基于所测量的双折射值，将所述砖分类为可接受的组或不可接受的组，

其中，当所述砖在与从所述砖切割的合成石英玻璃衬底的有效范围对应的范围内具有最多至3nm/cm的最大双折射值时，将所述砖分类为所述可接受的组,

其中，在分类步骤中，在合成石英玻璃衬底的双折射规格为最多至αnm/cm的条件下,当所述砖在与从所述砖切割的合成石英玻璃衬底的有效范围对应的范围内具有最多至1.5αnm/cm的最大双折射值时，将所述砖分类为所述可接受的组,

在分类步骤中将所述砖分类为所述可接受的组之后，将所述砖切割成合成石英玻璃板，将所述玻璃板研磨或磨平、粗抛光、和最终精抛光。

2.权利要求1所述的方法，其中在分类步骤中，当所述砖在与从所述砖切割的合成石英玻璃衬底的有效范围对应的范围内具有最多至2nm/cm的最大双折射值时，将所述砖分类为所述可接受的组。

3.制备用于纳米压印光刻掩模衬底或光掩模衬底的合成石英玻璃衬底的方法，包括以下步骤：

提供合成石英玻璃砖，

将所述砖切割成具有四棱柱形状的合成石英玻璃板，

用液体涂覆所述板的任意表面和相对的表面组成的两个表面，所述液体在双折射测量的波长下具有至少99.0％/mm的透射率，

通过使光进入一个经涂覆的表面并从另一经涂覆的表面离开测量所述板的双折射；基于所测量的双折射值将所述板分类为可接受的组或不可接受的组，

其中，在分类步骤中，当所述板在与合成石英玻璃衬底的有效范围对应的范围内具有最多至2nm/cm的最大双折射值时，将所述板分类为所述可接受的组，

其中，在分类步骤中，在合成石英玻璃衬底的双折射规格为最多至αnm/cm的条件下，当所述板在与合成石英玻璃衬底的有效范围对应的范围内具有最多至1.5αnm/cm的最大双折射值时，将所述板分类为所述可接受的组,

在分类步骤中将所述合成石英玻璃板分类为所述可接受的组之后，将所述玻璃板研磨或磨平、粗抛光、和最终精抛光。

4.权利要求1或3所述的方法，其中，待用所述液体涂覆的表面具有最多至1mm的粗糙度Sa。

5.权利要求1或3所述的方法，其中，所述液体的折射率与所述合成石英玻璃衬底的折射率之差在±0.1以内。

6.权利要求1或3所述的方法，其中，所述液体选自水、一元醇、多元醇、醚、醛、酮、羧酸、烃以及它们的水溶液。

7.权利要求1或3所述的方法，其中，所述液体是具有至少200的分子量的多元醇。

8.权利要求1或3所述的方法，其中，所述液体具有在20℃下低于2.3kPa的蒸气压。

9.权利要求1或3所述的方法，其中所述液体通过刷涂、喷涂和旋涂涂覆。

10.用于制备合成石英玻璃衬底的方法，包括以下步骤：

提供合成石英玻璃砖，

将所述砖切割成合成石英玻璃板，

研磨或磨平、粗抛光和精抛光所述玻璃板；

特征在于，通过根据权利要求1～9中任意一项的方法测试和分类所述砖或板，并将被分类为不可接受的砖或板从随后的加工和处理中排除。