[发明专利]闪烁体的表面处理方法

权利要求书

1.一种闪烁体的表面处理方法，其特征在于包括以下步骤：

步骤一、取质量分数为2～2.5％、直径为450～500nm的聚苯乙烯微球溶液和无水乙醇，按照体积比1:0.1～1:1.0比例混合形成聚苯乙烯微球-乙醇混合溶液；

步骤二、将配制好的聚苯乙烯微球-乙醇混合溶液滴到经过5％的十二烷甲基硫酸钠溶液中9～10小时浸泡后的单晶硅片上，等待聚苯乙烯微球-乙醇溶液在单晶硅片上充分展开，并使水分完全挥发；

步骤三、把附着聚苯乙烯微球的单晶硅片缓慢放入去离子水中，这时聚苯乙烯微球漂浮在水面上，并自然形成六角阵列排布；

步骤四、将闪烁体轻轻放入水中，利用闪烁体一个端面将去离子水表面漂浮的聚苯乙烯微球阵列捞起，待水分自然蒸发后，闪烁体表面附着的聚苯乙烯微球阵列即形成光子晶体结构；

步骤五、采用原子层沉积，在闪烁体表面附着的聚苯乙烯微球光子晶体上沉积保护层，沉积保护层时沉积室的温度为60摄氏度。

2.根据权利要求1所述闪烁体的表面处理方法，其特征在：所述的闪烁体是硅酸镥钇或者钇铝石榴石的任一种。

3.根据权利要求1所述闪烁体的表面处理方法，其特征在：所述聚苯乙烯微球的直径优选与闪烁体发光峰值波长相同。

4.根据权利要求1所述闪烁体的表面处理方法，其特征在：所述保护层材料是TiO₂、ZnO、Al₂O₃或者金刚石的任一种。