[发明专利]一种实验室制备己二酸的方法在审
| 申请号: | 201510301059.9 | 申请日: | 2015-06-04 | 
| 公开(公告)号: | CN104913958A | 公开(公告)日: | 2015-09-16 | 
| 发明(设计)人: | 刘欣莉 | 申请(专利权)人: | 海南科技职业学院 | 
| 主分类号: | G01N1/28 | 分类号: | G01N1/28 | 
| 代理公司: | 南昌洪达专利事务所 36111 | 代理人: | 刘凌峰 | 
| 地址: | 571199 *** | 国省代码: | 海南;66 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 实验室 制备 己二酸 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种制备己二酸的方法,具体是一种实验室制备己二酸的方法。
背景技术
己二酸(ADA),又称肥酸。常温下为白色晶体, 熔点152 ℃,沸点337.5 ℃,有机合成中间体,主要用于合成纤维 (尼龙-66,大约占己二酸总量的70%)其它的 (30%) 在制备聚氨酯:PA-46,PA-66,PA-610,合成树脂,合成革,聚酯泡沫塑料,塑料增塑剂,润滑剂,食品添加剂, 粘合剂, 杀虫剂,染料, 香料, 医药等领域得以广泛应用。目前在实验室的环境下制备己二酸,一般采用环己醇在高锰酸钾的碱性条件下在三口瓶中发生氧化反应,然后在过滤洗涤二氧化锰的溶液浓缩后结晶制得,从原料、设备、制备过程几方面分析存在以下问题:1、原料采用环己醇,成本较高;2、三口瓶使用完后清洁不方便;3、制备过程中洗涤二氧化锰,增加滤液浓缩的时间,延长了实验时间。
发明内容
本发明的目的是针对上述问题的不足,提供一种实验室制备己二酸的方法,采用环己酮为原料,普通烧杯为反应容器,不洗涤二氧化锰的方法,使得实验成本低、实验操作方便,实验效果更好。
本发明是这样来实现的,一种实验室制备己二酸的方法,其特征在于其生产方法如下:
1、将普通烧杯置于烧杯架上,在烧杯中降入计算好配比量高锰酸钾和氢氧化钠溶液,在烧杯内装上电磁搅拌器和温度计;
2、将烧杯内溶液加热到35℃~37℃,再向溶液中慢慢加入环己酮,同时加热至45℃~48℃,持续加热至高锰酸钾溶液颜色褪去;
3、将烧杯中的溶液趁热进行第一次抽滤,滤除固态的二氧化锰,为了节省实验时间,并不进行二氧化锰的洗涤操作,将滤液慢慢加热,蒸发少量水分;
4、将步骤3的滤液冷却后,将盐酸将PH值调整到2~4,冷却结晶后进行第二次抽滤,得到己二酸。
本发明的特点在于: 1、环己酮为原料代替环己醇,可以在降低成本的同时而不影响实验效果,并且增加己二酸的产量;2、采用普通烧杯作为容器,使得实验操作方便,容器清洁难度小;3、省去二氧化锰的洗涤操作,节约了实验时间,同时避免了学生因为二氧化锰洗涤液的量偏多,而造成长时间不见己二酸结晶析出的问题。
具体实施方式
实施例1、一种实验室制备己二酸的方法,其特征在于其生产方法如下:
1、将普通烧杯置于烧杯架上,在烧杯中降入计算好配比量高锰酸钾和氢氧化钠溶液,在烧杯内装上电磁搅拌器和温度计;
2、将烧杯内溶液加热到35℃,再向溶液中慢慢加入环己酮,同时加热至45℃,持续加热至高锰酸钾溶液颜色褪去;
3、将烧杯中的溶液趁热进行第一次抽滤,滤除固态的二氧化锰,为了节省实验时间,并不进行二氧化锰的洗涤操作,将滤液慢慢加热,蒸发少量水分;
4、将步骤3的滤液冷却后,将盐酸将PH值调整到2,冷却结晶后进行第二次抽滤,得到己二酸。
实施例2、一种实验室制备己二酸的方法,其特征在于其生产方法如下:
1、将普通烧杯置于烧杯架上,在烧杯中降入计算好配比量高锰酸钾和氢氧化钠溶液,在烧杯内装上电磁搅拌器和温度计;
2、将烧杯内溶液加热到37℃,再向溶液中慢慢加入环己酮,同时加热至48℃,持续加热至高锰酸钾溶液颜色褪去;
3、将烧杯中的溶液趁热进行第一次抽滤,滤除固态的二氧化锰,为了节省实验时间,并不进行二氧化锰的洗涤操作,将滤液慢慢加热,蒸发少量水分;
4、将步骤3的滤液冷却后,将盐酸将PH值调整到4,冷却结晶后进行第二次抽滤,得到己二酸。
实施例3、一种实验室制备己二酸的方法,其特征在于其生产方法如下:
1、将普通烧杯置于烧杯架上,在烧杯中降入计算好配比量高锰酸钾和氢氧化钠溶液,在烧杯内装上电磁搅拌器和温度计;
2、将烧杯内溶液加热到36℃,再向溶液中慢慢加入环己酮,同时加热至47℃,持续加热至高锰酸钾溶液颜色褪去;
3、将烧杯中的溶液趁热进行第一次抽滤,滤除固态的二氧化锰,为了节省实验时间,并不进行二氧化锰的洗涤操作,将滤液慢慢加热,蒸发少量水分;
4、将步骤3的滤液冷却后,将盐酸将PH值调整到3,冷却结晶后进行第二次抽滤,得到己二酸。
本发明不限于以上实施例,对于本技术领域的技术人员来说,在不脱离本发明构思和原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。
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