[发明专利]涂布系统和涂布方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种涂布系统和涂布方法。

背景技术

目前，在显示装置(例如：TFT-LCD和AMOLED)制造工艺中，尤其是彩膜基板制造工艺中，涂布工艺是最重要的一段工艺制程。涂布工艺的作用是将涂布材料极度均匀的涂覆在基板表面以在基板表面形成薄膜。由于薄膜的膜厚会影响产品的质量，因此显示装置的制造工艺对薄膜的厚度要求特别高。在涂布工艺中，涂布的均匀性决定了涂布工艺的优劣，而涂布的均匀性又会影响薄膜的膜厚。

现有技术中存在多种控制膜厚的方法，但是现有技术中还没有一种方案能够实现实时调整膜厚。

发明内容

本发明提供一种涂布系统和涂布方法，用于实现实时调整膜厚。

为实现上述目的，本发明提供了一种涂布系统，包括：涂布设备、检测装置和调节装置；

所述涂布设备，用于以设定速度将涂布材料涂布于基板上；

所述检测装置，用于在所述涂布设备涂布时检测所述涂布材料的测量点的膜厚，并将检测出的膜厚发送给所述调节装置；

所述调节装置，用于根据所述膜厚生成设定速度，并将所述设定速度发送给所述涂布设备。

可选地，所述检测装置包括光源、发射端、接收端和信号处理模块，所述发射端和所述接收端分别位于基板的两侧且相对设置；

所述光源，用于向所述发射端提供照射光；

所述发射端，用于向所述基板发射所述照射光以使所述照射光透过所述基板和所述涂布材料；

所述接收端，用于接收透过所述基板和所述涂布材料的照射光，并将照射光发送至所述信号处理模块；

所述信号处理模块，用于根据接收到的照射光生成所述膜厚。

可选地，所述信号处理模块包括光谱仪和第一计算模块；

所述光谱仪，用于将接收到的照射光转换成光谱线；

所述第一计算模块，用于对所述光谱线计算处理，生成所述膜厚。

可选地，所述涂布设备包括平台、泵浦和喷嘴，所述喷嘴位于所述基板的上方，所述平台中设置有镂空结构，所述发射端位于所述镂空结构中；

所述平台，用于承载所述基板；

所述泵浦，用于以所述设定速度驱动所述喷嘴；

所述喷嘴，用于将涂布材料涂布于基板上。

可选地，所述平台中位于发射端和基板之间的部分结构的材料为透明材料。

可选地，所述涂布设备还包括：设置于所述基板上方的移动装置，所述接收端和所述喷嘴位于所述移动装置上，且所述发射端和所述接收端位于所述喷嘴的后方；

所述移动装置在所述基板上方移动，以使所述接收端与所述喷嘴同步移动；

所述发射端在所述基板下方以与所述接收端相同的移动，以使所述发射端和所述接收端与所述喷嘴同步移动。

可选地，所述调节装置包括：判断模块和第二计算模块；

所述判断模块，用于判断|(T1-T2)/T1|是否小于或者等于设定差值；

所述第二计算模块，用于若所述判断模块判断出|(T1-T2)/T1|大于设定差值时，根据公式[1+(T1-T2)/T1]V计算出设定速度，并将设定速度发送至所述涂布设备；

其中，T1为标准膜厚，T2为检测出的膜厚，V为原始速度。

为实现上述目的，本发明提供了一种涂布方法，包括：

检测装置在涂布设备将涂布材料涂布于基板上时检测所述涂布材料的测量点的膜厚，并将检测出的膜厚发送给所述调节装置；

调节装置根据所述膜厚生成设定速度，并将所述设定速度发送给所述涂布设备；

所述涂布设备以设定速度将涂布材料涂布于基板上。

可选地，所述检测装置包括光源、发射端、接收端和信号处理模块，所述发射端和所述接收端分别位于基板的两侧且相对设置；

所述光源向所述发射端提供照射光；

所述发射端向所述基板发射所述照射光以使所述照射光透过所述基板和所述涂布材料；

所述接收端接收透过所述基板和所述涂布材料的照射光，并将照射光发送至所述信号处理模块；

所述信号处理模块根据接收到的照射光生成所述膜厚。

可选地，所述调节装置包括：判断模块和第二计算模块；

所述判断模块判断|(T1-T2)/T1|是否小于或者等于设定差值；

若所述判断模块判断出|(T1-T2)/T1|大于设定差值时，所述第二计算模块根据公式[1+(T1-T2)/T1]V计算出设定速度，并将设定速度发送至所述涂布设备；