[发明专利]一种晶圆曝光顺序的优化方法

权利要求书

1.一种晶圆曝光顺序的优化方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤S01、提供待曝光晶圆；

步骤S02、预设多个透镜受热等级值，并检测当前透镜受热值；其中，所述透镜受热等级值包括第一阈值A、第二阈值B以及第三阈值C，所述第一阈值A<第二阈值B<第三阈值C；

步骤S03、根据当前透镜受热值选择曝光路径对硅片进行曝光；其中：

当透镜受热值<第一阈值A时，所述曝光路径从晶圆边缘开始，依次重复进行曝光；

当第一阈值A<透镜受热值<第二阈值B时，所述曝光路径从晶圆边缘开始，纵向间隔一曝光单元进行重复曝光；

当第二阈值B<透镜受热值<第三阈值C时，所述曝光路径从晶圆边缘开始，纵向间隔一曝光单元且横向间隔一列曝光单元进行重复曝光，或者仅纵向间隔一曝光单元进行重复曝光；具体的，曝光路径从晶圆边缘开始，纵向间隔一曝光单元进行曝光，到达该列曝光单元终点时，移动至间隔一列的曝光单元的端部，继续纵向间隔一曝光单元进行曝光，如此循环，直至完成晶圆曝光；

当透镜受热值>第三阈值C时，停止光刻机工作，等待透镜冷却。

2.根据权利要求1所述的晶圆曝光顺序的优化方法，其特征在于，步骤S03中，当透镜受热值<第一阈值A时，所述曝光路径从晶圆边缘开始，依次重复进行曝光，到达该列曝光单元终点时，移动至下列曝光单元的端部，继续依次重复进行曝光，如此循环，直至完成晶圆曝光。

3.根据权利要求1所述的晶圆曝光顺序的优化方法，其特征在于，步骤S03中，当第一阈值A<透镜受热值<第二阈值B时，所述曝光路径从晶圆边缘开始，纵向间隔一曝光单元进行曝光，到达该列曝光单元终点时，移动至相邻列曝光单元的端部，继续纵向间隔一曝光单元进行曝光，如此循环，直至完成晶圆曝光。

4.根据权利要求1所述的晶圆曝光顺序的优化方法，其特征在于，步骤S03中，当第二阈值B<透镜受热值<第三阈值C时，所述曝光路径从晶圆边缘开始，纵向间隔一曝光单元进行曝光，到达该列曝光单元终点时，移动至间隔一列的曝光单元的端部，继续纵向间隔一曝光单元进行曝光，如此循环，直至完成晶圆曝光。

5.根据权利要求1所述的晶圆曝光顺序的优化方法，其特征在于，所述晶圆划分为若干个曝光单元，各曝光单元的尺寸一致。

6.根据权利要求1所述的晶圆曝光顺序的优化方法，其特征在于，所述晶圆通过真空设备吸附在载片台上。