[发明专利]用于角膜测量的激光诱导等离子体光谱分析设备及方法

权利要求书

1.一种用于角膜测量的激光诱导等离子体光谱分析设备，其特征在于，包括：激光器，光束质量调节系统，光束转折系统，滤光系统，望远镜系统，检测点距离动态监测系统，反馈调节控制系统，中阶梯光栅光谱仪，积分延迟探测系统以及计算机；

所述光束质量调节系统用于控制激光光束的输出光强；

所述光束转折系统用于折转控制激光光束；

所述检测点距离动态监测系统用于检测角膜到望远镜系统的距离；

所述反馈调节控制系统用于控制望远镜系统；

所述望远镜系统用于调节激光的聚焦位置，使激光聚焦到角膜上，在角膜表面形成等离子体光信号；

所述滤光系统用于对等离子体光信号进行降噪处理；

所述中阶梯光栅光谱仪用于对采集的等离子体光信号进行光谱分析；

所述积分延迟探测系统用于处理采集的等离子体光信号，得到定量的光谱信息。

2.如权利要求1所述的用于角膜测量的激光诱导等离子体光谱分析设备，其特征在于，所述激光器发射的激光波长为1064nm。

3.如权利要求1所述的用于角膜测量的激光诱导等离子体光谱分析设备，其特征在于，所述激光器发射的激光波长为266nm。

4.如权利要求1所述的用于角膜测量的激光诱导等离子体光谱分析设备，其特征在于，所述滤光系统包括滤光镜；所述滤光镜表面设置有高反射膜。

5.如权利要求4所述的用于角膜测量的激光诱导等离子体光谱分析设备，其特征在于，所述高反射膜的反射率不低于99.99％。

6.如权利要求4所述的用于角膜测量的激光诱导等离子体光谱分析设备，其特征在于，所述高反射膜对激光光束进行高反射，反射率为99.99％。

7.如权利要求4所述的用于角膜测量的激光诱导等离子体光谱分析设备，其特征在于，所述高反射膜通过电镀的方式镀于所述滤光镜表面。

8.如权利要求1所述的用于角膜测量的激光诱导等离子体光谱分析设备，其特征在于，所述望远镜系统包括凸面反射镜和凹面反射镜，通过调节所述凸面反射镜与所述凹面反射镜之间的距离来调节激光聚焦的位置。

9.如权利要求1所述的用于角膜测量的激光诱导等离子体光谱分析设备，其特征在于，所述检测点距离动态监测系统包括单频激光干涉仪、双频激光干涉仪或激光测距仪中的一种。

10.一种利用权利要求1所述设备进行角膜测量的方法，其特征在于，包括：

a.激光器发射激光，激光通过所述望远镜系统聚焦至角膜处，使角膜表面形成等离子体信号；

b.所述等离子体信号通过所述滤光系统处理后，由所述积分延迟探测系统处理采集的等离子体光信号，再由所述中阶梯光栅光谱仪进行光谱分析；

c.通过光谱分析结果判断角膜的力学性能。