[发明专利]一种蒸镀坩埚有效
| 申请号: | 201510249701.3 | 申请日: | 2015-05-15 |
| 公开(公告)号: | CN104928628B | 公开(公告)日: | 2018-03-09 |
| 发明(设计)人: | 陈磊;张晓晋 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
| 代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司11138 | 代理人: | 吕耀萍 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 坩埚 | ||
技术领域
本发明涉及OLED(Organic Light Emitting Diode,有机发光二极管)制备技术领域,特别涉及一种蒸镀坩埚。
背景技术
在制造OLED时,使用坩埚将用于制作OLED的有机材料蒸镀到OLED基板上。
目前在使用坩埚蒸镀用于制作OLED的有机材料时,先将有机材料盛放于坩埚内,坩埚外部包裹有加热丝,该加热丝在通电时可对坩埚进行加热,盛放在坩埚内的有机材料在高温下蒸发或升华为气体,气体上升并遇到位于坩埚上方的OLED基板,在OLED基板上发生凝华,从而将有机材料蒸镀到OLED基板上。
在实现本发明的过程中,发明人发现现有技术至少存在以下问题:
由于有机材料的导热速率较慢,位于坩埚中部的有机材料由于远离坩埚内壁,其温度较低,导致其蒸发或升华的速率相对靠近坩埚内壁的有机材料较慢,长时间的蒸镀速率差异不仅会导致位于坩埚中间的有机材料出现剩余而结块留在坩埚内,使得材料利用率降低;还会导致坩埚内的有机材料整体蒸镀的速率不稳定,影响蒸镀成膜的质量,从而影响器件的性能;且位于坩埚中间的有机材料发生蒸发或升华相对靠近坩埚内壁的有机材料需要的时间更长,而长期蒸镀会影响有机材料的质量。
发明内容
为了解决现有技术的坩埚在蒸镀时会导致材料利用率低,导致坩埚内的有机材料整体蒸镀的速率不稳定,影响蒸镀成膜的质量,从而影响器件性能及长期蒸镀会影响有机材料质量的问题,本发明实施例提供了一种蒸镀坩埚。所述技术方案如下:
一种蒸镀坩埚,所述蒸镀坩埚包括坩埚本体和导热部件;
所述导热部件设置在所述坩埚本体内部,所述导热部件用于将所述坩埚本体上的热量直接传递到位于所述坩埚本体中部的蒸镀材料中。
具体地,所述导热部件为导热箅子,所述导热箅子由导热体构成,且所述导热体上分布有多个通孔。
具体地,所述导热箅子平行或近似于所述坩埚本体底面,且所述坩埚本体的轴线与所述导热箅子的轴线之间的距离不超过第一预设尺寸。
进一步地,所述导热箅子的导热体按照所述导热箅子由外至内的方向由疏至密。
具体地,所述导热箅子的通孔为正方形、长方形、菱形、三角形中的一种或多种。
具体地,所述导热箅子的通孔的大小大于所述坩埚本体的防爆沸金属片的通孔的大小。
进一步地,所述蒸镀坩埚包括多层导热箅子,所述多层导热箅子相互平行或近似平行,且任意相邻两层所述导热箅子间有间隙。
具体地,所述蒸镀坩埚包括两层或三层导热箅子。
进一步地,所述蒸镀坩埚还包括导热架,所述蒸镀坩埚包括的每层导热箅子均固定在所述导热架上。
具体地,所述导热箅子为网状结构。
具体地,所述导热箅子为设有多个通孔的板体。
具体地,所述导热部件与所述坩埚本体内壁接触或者所述导热部件的边缘与所述坩埚本体内壁之间的间隔不超过第二预设尺寸。
具体地,所述导热部件为空间网状结构。
具体地,所述导热部件包括螺旋体和多个导热体,所述螺旋体沿所述坩埚本体内壁设置,所述多个导热体中的每个导热体的两端分别连接至所述螺旋体上,形成空间网状结构。
具体地,所述导热部件包括第一螺旋体、第二螺旋体和多个导热体,所述第一螺旋体和所述第二螺旋体均沿所述坩埚本体内壁设置,所述多个导热体均沿水平方向设置,且所述多个导热体中的每个导热体的一端与所述第一螺旋体连接,另一端与所述第二螺旋体连接。
进一步地,所述蒸镀坩埚还包括空心导热柱,所述空心导热柱的外形轮廓与所述坩埚本体内壁轮廓一致,所述导热部件固定在所述空心导热柱中,所述空心导热柱的外壁与所述坩埚本体的内壁接触。
进一步地,所述导热部件由导热性好、热稳定性好且耐腐蚀的材料制成。
具体地,所述导热部件的材料为钛合金、钼或钨。
本发明实施例提供的技术方案带来的有益效果是:
本发明通过在坩埚本体内部设置导热部件,通过导热部件将坩埚本体的热量直接传递至位于坩埚本体中部的蒸镀材料中,减小位于坩埚本体中部的蒸镀材料和靠近坩埚本体内壁的蒸镀材料的温度差异,从而缩小位于坩埚本体中部的蒸镀材料和靠近坩埚本体内壁的蒸镀材料的蒸镀速率之间的差异,避免位于坩埚本体中部的蒸镀材料发生剩余而结块存留在坩埚本体内,提高蒸镀材料的利用率,且保证坩埚本体内的蒸镀材料整体的蒸镀速率稳定,保证蒸镀成膜的效果,从而保证器件的性能,也保证位于坩埚本体中部的蒸镀材料的性能。
附图说明
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