[发明专利]一种氧化石墨烯的场发射平板显示仪的制备方法

权利要求书

1.一种氧化石墨烯的场发射平板显示仪的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：

步骤一，在衬底上涂覆光刻胶；

步骤二，对所述光刻胶进行图形化，使所述衬底上暴露需要制备场发射点的区域；

步骤三，镀覆金属薄膜；

步骤四，在所述金属薄膜上磁场辅助沉降镍纳米颗粒；

步骤五，在真空炉中对步骤四得到的样品进行热处理；

步骤六，在步骤五得到的样品表面沉积氧化石墨烯；

步骤七，除去样品上剩余的光刻胶，得到场发射点阵；

步骤八，对场发射点阵进行布线；

步骤九，在步骤八得到的样品上方平行放置镀有荧光粉的ITO玻璃片，样品与所述玻璃片用绝缘材料隔开一定距离，制成场发射平板模块；

步骤十，使用单片机和移位寄存器数组成外围电路，结合所述场发射平板模块实现屏显。

2.根据权利要求1所述的一种氧化石墨烯的场发射平板显示仪的制备方法，其特征在于，步骤一中，所述衬底选自玻璃、陶瓷、含有绝缘层的硅、含有绝缘层的锗、聚乙烯、聚四氟乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯之中的一种；所述光刻胶选自双叠氮系光刻胶、酚醛树脂系光刻胶、紫外光刻胶、深紫外光刻胶、电子束胶、离子束胶、X射线胶之中的一种。

3.根据权利要求1所述的一种氧化石墨烯的场发射平板显示仪的制备方法，其特征在于，步骤二中，所述图形化的方法是：对光刻胶进行曝光、显影、部分去胶。

4.根据权利要求1所述的一种氧化石墨烯的场发射平板显示仪的制备方法，其特征在于，步骤三中，所述镀覆选自以下方法中的任意一种：电子束蒸发法、磁控溅射法、化学气相沉积法和化学镀法；所述金属选自W、Mo、Au、Ni、Ti、Cr、Pt或Pd之中的一种。

5.根据权利要求1所述的一种氧化石墨烯的场发射平板显示仪的制备方法，其特征在于，步骤四中，所述磁场辅助沉降镍纳米颗粒步骤为：在镍纳米颗粒悬浊液四周或者底部放置一块永磁铁，或者将镍纳米颗粒悬浊液置于均匀磁场中，再将镀有金属薄膜的衬底垂直于磁场放置在镍纳米颗粒悬浊液之中。

6.根据权利要求1所述的一种氧化石墨烯的场发射平板显示仪的制备方法，其特征在于，步骤五中，所述热处理是指：在200℃～600℃的真空或者惰性气体保护气氛中加热5～8小时。

7.根据权利要求1所述的一种氧化石墨烯的场发射平板显示仪的制备方法，其特征在于，步骤七中，场发射点阵为：点与点之间间距为0.5～500微米，每个点的面积为0.1～10000平方微米。

8.根据权利要求1所述的一种氧化石墨烯的场发射平板显示仪的制备方法，其特征在于，步骤八中，所述布线使用的方法是：利用套刻方法对样品的每一个点进行布线。

9.根据权利要求1所述的一种氧化石墨烯的场发射平板显示仪的制备方法，其特征在于，步骤九中，所述绝缘材料为橡胶、云母或聚四氟乙烯中的一种，所述绝缘材料厚度为50～500微米。

10.根据权利要求1所述的一种氧化石墨烯的场发射平板显示仪的制备方法，其特征在于，步骤十中，使用的单片机芯片为：51单片机或者飞思卡尔单片机；使用的移位寄存器为以下种类中的一种：八位单向移位寄存器、八位双向移位存器、四位单向移存器、四位双向移位存器；实现屏显是指：将要显示图像通过单片机组成的控制模块进行处理，将发光点的位置信息传递给移位寄存器组成的驱动模块，驱动模块控制对应的点发光从而实现屏显。