[发明专利]一种无金属酞菁-氧化石墨烯复合非线性光学薄膜材料及其制备方法有效
| 申请号: | 201510239334.9 | 申请日: | 2015-05-12 |
| 公开(公告)号: | CN104898346B | 公开(公告)日: | 2018-04-27 |
| 发明(设计)人: | 宋微娜;贺春英;陈博文;陈志敏;吴谊群 | 申请(专利权)人: | 黑龙江大学 |
| 主分类号: | G02B1/04 | 分类号: | G02B1/04 |
| 代理公司: | 哈尔滨市松花江专利商标事务所23109 | 代理人: | 侯静 |
| 地址: | 150080 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 金属 氧化 石墨 复合 非线性 光学薄膜 材料 及其 制备 方法 | ||
1.一种无金属酞菁-氧化石墨烯复合非线性光学薄膜材料,该无金属酞菁-氧化石墨烯复合非线性光学薄膜材料由酞菁化合物和氧化石墨烯的水溶液以静电自组装的方法成膜,其中所述的酞菁化合物为带电荷的四-β-(4-磺酸苯氧基)酞菁,其结构式为:
。
2.根据权利要求1所述的一种无金属酞菁-氧化石墨烯复合非线性光学薄膜材料,其特征在于所述的氧化石墨烯采用Hummers法制备得到。
3.一种无金属酞菁-氧化石墨烯复合非线性光学薄膜材料的制备方法,其特征在于是按下列步骤实现:
一、将预处理后的基片置于质量浓度为10%的聚二烯丙基二甲基氯化铵PDDA溶液中浸泡4~6min,取出后用蒸馏水洗净吹干,再浸入到质量浓度为10%的聚苯乙烯磺酸钠PSS溶液中4~6min,取出后用蒸馏水洗净吹干,完成一次PDDA-PSS浸泡过程,重复PDDA-PSS浸泡过程三次,得到带有负电荷的基片;
二、将步骤一得到的带有负电荷的基片放入质量浓度为10%的聚二烯丙基二甲基氯化铵PDDA溶液中浸泡4~6min,取出后用蒸馏水洗净吹干,再浸入到四-β-(4-磺酸苯氧基)酞菁β-PhSPcH2水溶液中4~6min,取出后用蒸馏水洗净吹干,然后浸入到质量浓度为10%的聚二烯丙基二甲基氯化铵PDDA溶液中浸泡4~6min,取出后用蒸馏水洗净吹干,再浸入到氧化石墨烯GO水溶液中4~6min,取出后用蒸馏水洗净吹干,完成单对层无金属酞菁-氧化石墨烯复合薄膜组装;
三、重复多次步骤二的单对层无金属酞菁-氧化石墨烯复合薄膜组装过程,得到无金属酞菁-氧化石墨烯复合非线性光学薄膜材料。
4.根据权利要求3所述的一种无金属酞菁-氧化石墨烯复合非线性光学薄膜材料的制备方法,其特征在于步骤一所述的基片为石英片或硅片。
5.根据权利要求3所述的一种无金属酞菁-氧化石墨烯复合非线性光学薄膜材料的制备方法,其特征在于步骤一所述的预处理后的基片是将基片先用丙酮擦拭干净,然后浸入1mol/L的NaOH溶液中5min,取出后洗净吹干,得到预处理后的基片。
6.根据权利要求3所述的一种无金属酞菁-氧化石墨烯复合非线性光学薄膜材料的制备方法,其特征在于步骤二所述的四-β-(4-磺酸苯氧基)酞菁β-PhSPcH2水溶液的浓度为0.8~1.5mg/ml。
7.根据权利要求6所述的一种无金属酞菁-氧化石墨烯复合非线性光学薄膜材料的制备方法,其特征在于步骤二所述的四-β-(4-磺酸苯氧基)酞菁β-PhSPcH2水溶液的浓度为1mg/ml。
8.根据权利要求3所述的一种无金属酞菁-氧化石墨烯复合非线性光学薄膜材料的制备方法,其特征在于步骤二所述的氧化石墨烯GO水溶液的浓度为0.08~0.15mg/ml。
9.根据权利要求8所述的一种无金属酞菁-氧化石墨烯复合非线性光学薄膜材料的制备方法,其特征在于步骤二所述的氧化石墨烯GO水溶液的浓度为0.1mg/ml。
10.根据权利要求3所述的一种无金属酞菁-氧化石墨烯复合非线性光学薄膜材料的制备方法,其特征在于步骤三重复5~20次步骤二的单对层无金属酞菁-氧化石墨烯复合薄膜组装过程。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于黑龙江大学,未经黑龙江大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510239334.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种实验室用圆盘自动进样装置
- 下一篇:一种抗体芯片检测装置





