[发明专利]等离子体处理装置有效
| 申请号: | 201510225056.1 | 申请日: | 2015-05-05 |
| 公开(公告)号: | CN105097403B | 公开(公告)日: | 2017-11-21 |
| 发明(设计)人: | 横田聪裕;檜森慎司;大下辰郎;草野周 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01L21/02 |
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人: | 刘新宇,张会华 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 等离子体 处理 装置 | ||
1.一种等离子体处理装置,其用于使处理气体的等离子体作用于被处理基板而对被处理基板施加处理,其中,
该等离子体处理装置包括:
处理容器,其用于以所述被处理基板能够出入的方式容纳所述被处理基板;
下部电极,其配置在所述处理容器内,用于载置所述被处理基板;
上部电极,其配置在所述处理容器内,隔着处理空间与所述下部电极相对;
高频电源,其用于向所述上部电极与所述下部电极之间施加高频电力;
主磁体单元,其在所述处理容器的上部或上方具有以在上下方向上穿过所述下部电极的中心的中心轴线为中心的1个或多个环状的主电磁线圈;以及
辅助磁体单元,其用于在所述处理空间内形成与所述中心轴线正交或倾斜交叉的磁场。
2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置,其中,
所述辅助磁体单元具有在所述处理容器的上部或上方与所述处理空间相对的1个或多个磁极,该1个或多个磁极配置在比任意一个所述环状的主电磁线圈靠径向内侧或者比任意一个所述环状的主电磁线圈靠径向外侧的、自所述中心轴线偏离了的位置。
3.根据权利要求2所述的等离子体处理装置,其中,
所述辅助磁体单元具有配置于相对于所述中心轴线构成点对称的位置且分别与所述处理空间相对的一对或多对N极和S极。
4.根据权利要求3所述的等离子体处理装置,其中,
所述N极和所述S极分别配置于在转圈方向上被二分割成的第1区间和第2区间内。
5.根据权利要求2至4中任一项所述的等离子体处理装置,其中,
所述辅助磁体单元具有:1个或多个棒型磁体,该1个或多个棒型磁体以使一个磁极面向所述处理空间的方式配置;以及辅助磁轭,其与所述棒型磁体的另一个磁极相结合。
6.根据权利要求5所述的等离子体处理装置,其中,
各个所述棒型磁体具有:1个或多个棒状的辅助铁心,在自所述中心轴线在半径方向上偏离了恒定距离的位置,该1个或多个棒状的辅助铁心以使其顶端朝向所述处理空间的方式与所述中心轴线平行地延伸;以及辅助电磁线圈,其安装于各个所述辅助铁心。
7.根据权利要求1至4、6中任一项所述的等离子体处理装置,其中,
在所述辅助磁体单元中,使与所述处理空间相对的磁极绕所述中心轴线沿转圈方向旋转。
8.根据权利要求5所述的等离子体处理装置,其中,
在所述辅助磁体单元中,使与所述处理空间相对的所述磁极绕所述中心轴线沿转圈方向旋转。
9.根据权利要求1至4中任一项所述的等离子体处理装置,其中,
将所述主磁体单元中的多个所述主电磁线圈呈同心圆状配置在相同高度位置。
10.根据权利要求1至4中任一项所述的等离子体处理装置,其中,
所述主磁体单元具有主磁轭,该主磁轭覆盖各个所述主电磁线圈的除了下表面之外的内周面、外周面以及上表面。
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