[发明专利]制造强化的钟表组件的方法和相应的钟表组件和钟表

权利要求书

1.一种制造钟表组件的方法，其中，形成钟表组件的坯料的零件由可微加工材料构成，所述零件包括至少一个具有初始粗糙度的表面，其中，所述方法包括以下步骤：

·提供所述可微加工材料的基材(E0)；

·用包含至少一个开口的保护涂层至少部分覆盖所述基材(E1-E2)；

·通过保护涂层中的开口对所述基材进行蚀刻并因此获得蚀刻的表面(E3)；

并且其中，所述方法还包括

·通过旨在降低所述表面的粗糙度的蚀刻流体来对所述零件进行机械强化处理的步骤(E4)，所述蚀刻流体施加到所述零件的至少一个表面上存在的可微加工材料，并且通过保护涂层中的开口对所述蚀刻表面施加所述机械强化处理，和

·然后去除保护涂层(E5)。

2.根据权利要求1所述的方法，其中通过所述蚀刻流体对所述零件进行的所述机械强化处理是各向同性类型的。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述机械强化处理(E4)是等离子体处理或用液体化学蚀刻剂的处理。

4.根据权利要求3所述的方法，其中所述等离子体由包含卤素的气体形成。

5.根据权利要求3所述的方法，其中所述等离子体由包含氟或氯的气体形成。

6.根据权利要求3所述的方法，其中所述零件在等离子体处理期间被电偏压。

7.根据权利要求3所述的方法，其中所述液体化学蚀刻剂包括酸或碱。

8.根据权利要求3所述的方法，其中所述液体化学蚀刻剂包括氢氧化钾，或者包括氢氟酸与硝酸和/或乙酸的混合物。

9.根据权利要求1或2所述的方法，其中蚀刻开口以穿过所述基材，并且对所述基材中开口的侧壁施加蚀刻处理。

10.根据权利要求1或2所述的方法，其中通过深蚀刻来蚀刻所述基材。

11.根据权利要求1或2所述的方法，通过深反应离子蚀刻来蚀刻所述基材。

12.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述保护涂层由光刻胶或二氧化硅构成。

13.根据权利要求1所述的方法，其中使用LIGA技术或使用激光切割技术制造组件坯料。

14.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述可微加工材料是下述材料之一：硅、金刚石和石英。

15.根据权利要求1或2所述的方法，其中钟表组件是下述之一：齿轮、擒纵轮、曲柄、冲击销、棘爪和弹簧。

16.根据权利要求1或2所述的方法，其中钟表组件是回位弹簧或游丝。

17.通过根据权利要求1至16任一项所述的方法所获得的钟表组件。

18.包括根据权利要求17所述的钟表组件的钟表。