[发明专利]显示基板、显示装置及其制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板、显示装置及其制作方法。

背景技术

在显示行业尤其是TFT-LCD制造行业中，随着产业线的扩大，配向膜的涂覆通常选用喷墨印刷方式，该印刷方式需要配向膜的粘度要低，通常小于15cp。

由于配向膜是以液态涂布在基板上，在配向膜溶剂蒸发过程中，在配向膜图案的周边，配向膜边缘溶剂的蒸发速度更快，同时由于配向膜溶剂表面张力作用，溶质不断向最边缘累积，出现边缘配向膜膜厚偏厚，靠近边缘附近配向膜膜厚偏薄的现象，这部分配向膜膜厚异常区域为配向膜不均匀区域，即Halo区域，如图1所示，在基板10的表面涂覆有配向膜20中，其中A区域为配向膜偏厚区域，B区域为配向膜偏薄区域，C区域为配向膜均匀区域，并且配向膜的粘度越低，形成的Halo区域越大，进而会影响产品的周边显示，这便成为窄边框及超窄边框产品开发的瓶颈。

传统的配向膜制备工艺都是以每个基板为单位在衬底上印刷出一个个的配向膜图案，如图2所示，每个基板包括显示区域101和焊盘区域102，在显示区域101上涂覆有配向膜，在传统的制作工艺中，对每个基板的显示区域101分别进行配向膜的涂覆，从而在制作工艺上比较繁复，并且分别涂覆配向膜，在每个基板的显示区域101的边缘的配向膜会出现Halo区。成盒后显示面板边缘断面示意图如图3所示，通过上述方法制备的显示基板，在成盒后的显示面板中，基板10上涂覆的配向膜20的边缘均会出现Halo区，从而使密封区域30的设计受到限制。

发明内容

本发明的目的是提供一种显示基板、显示装置及其制作方法，通过将显示基板的焊盘区域的引线设置成凹凸结构，在进行配向膜涂覆时，可以在整个基板上进行涂覆，从而避免制成的显示基板上的配向膜的边缘产生Halo区域。

为达到上述目的，本发明提供了一种显示基板，其特征在于，包括显示区域和焊盘区域，所述显示区域和所述焊盘区域均涂覆有配向膜材料，在所述焊盘区域上设置有至少一条引线，每条所述引线的表面包括凹凸结构，所述凹凸结构中的凸部不被配向膜材料覆盖且能与覆晶薄膜导电接触，所述凹凸结构中的凹部容纳有配向膜材料。

其中，所述凸部与所述凹部在所述引线的宽度方向或长度方向交替设置。

其中，所述凸部在凸部与凹部相连的方向上的垂直截面为梯形，且坡度角为0°～60°。

其中，所述引线在所述凹部底面处的厚度为150-600nm，所述凸部的顶面高于所述凹部的底面不大于200nm。

根据本发明的另一个方面，提供一种显示装置，其特征在于，包括上述显示基板。

根据本发明的又一个方面，提供一种显示基板的制作方法，其特征在于，所述显示基板包括显示区域和焊盘区域，所述方法包括：

在所述焊盘区域形成至少一条表面具有凹凸结构的引线；

在所述显示基板衬底的所有区域涂覆配向膜材料并固化，使得每条所述引线的凹凸结构中的凸部不被所述配向膜材料覆盖而能与覆晶薄膜导电接触，凹部容纳有配向膜材料。

优选地，每条引线的凹凸结构的凸部与凹部在引线的宽度方向或长度方向交替设置。

优选地，每条引线的凹凸结构的凸部在凸部与凹部相连的方向上的垂直截面为梯形，且坡度角为0°～60°。

其中，每条引线的凹凸结构的凹部的厚度为150nm～600nm，且每条所述引线的凹凸结构的凸部的顶面高于凹部的底面不大于200nm。

根据本发明的又另一个方面，提供一种显示装置的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

制作第一显示基板和第二显示基板，其中第一显示基板和/或第二显示基板按照上述任一的显示基板的制作方法制作；

将所述第一显示基板与第二显示基板对盒。

本发明提供的显示基板、显示装置及其制作方法，将焊盘区域的引线设置成凹凸结构，在涂覆配向膜时，涂覆在引线上的配向膜材料聚集在凹凸结构的凹部，而引线的凸部没有被涂覆配向膜材料，从而可以通过凸部与覆晶薄膜接触进行信号的导通；并且基于上述结构，在制作显示基板的过程中可以对整个基板进行配向膜的涂覆，尤其是在衬底上同时制作多个显示基板的工艺中，通过在衬底上整体涂覆配向膜材料，使得配向膜的边缘位于衬底的边缘，从而避免了在显示基板的边缘形成Halo区域。

附图说明

图1示出了现有的显示基板的配向膜边缘的Halo区域的结构示意图。

图2示出了现有的制作显示基板的工艺示意图。

图3示出了现有的成盒后的显示面板边缘断面示意图。

图4示出了的现有的引线的结构示意图。