[发明专利]一种高雾度柔性透明导电膜及其制备方法

权利要求书

1.一种高雾度柔性透明导电膜，其特征在于：所述透明导电膜自下而上由柔性透明基板、PVA胶体层和银纳米线导电层组成，其光学雾度≥10%，可见光透过率T≥85%，方块电阻Rs≤90Ω/sq。

2.一种高雾度柔性透明导电膜的制备方法，其特征包括如下步骤：

(1) 将一定量的聚乙烯醇（PVA）和去离子水混合，在加热搅拌作用下制备成PVA溶胶；

(2) 采用柔性透明基板，将PVA溶胶涂覆在基板上形成厚度均匀的薄膜，并在80-100℃下进行干燥；

(3) 取一定量的银纳米线溶于无水乙醇或丙酮中，超声分散10~30min，得到银纳米线的悬浊液；

(4) 将柔性基板固定在提拉机的机械臂上，下降浸渍速度为80~100mm/min，基底在银纳米线悬浊液中停留时间为15~30s，提拉速度为40~60mm/min，提拉出悬浊液液面后静置时间为15~30s，重复次数3~5次；

(5) 浸渍过程完成后，将薄膜连同基板在80-100℃下进行干燥，即得到平整、均匀的银纳米线导电膜。

3.如权利要求2所述的一种高雾度柔性透明导电膜制备方法，其特征在于：所述步骤(1)中PVA溶胶的质量百分浓度为5~10%wt。

4.如权利要求2所述的一种高雾度柔性透明导电膜制备方法，其特征在于：所述步骤(2)中的柔性基板为聚对苯二甲酸乙二酯（PET）、聚对苯二甲酸丁二酯（PBT）和聚氯乙烯（PVC）中任一种。

5.如权利要求2所述的一种高雾度柔性透明导电膜制备方法，其特征在于：所述步骤(2)中PVA胶体的涂覆厚度为100nm-100μm。

6.如权利要求2所述的一种高雾度柔性透明导电膜制备方法，其特征在于：所述步骤(2)中PVA胶体的涂覆的方式为刮涂、棒涂、辊涂或者旋涂。

7.如权利要求2所述的一种高雾度柔性透明导电膜制备方法，其特征在于：所述步骤(3)中所述的银纳米线平均直径为20~60 nm，长度为10~50μm。

8.如权利要求3所述的一种高雾度柔性透明导电膜制备方法，其特征在于：所述步骤(3)中悬浊液中银纳米线的浓度为0.5-2mg/mL。