[发明专利]彩色滤光片及其制作方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 201510173972.5 申请日: 2015-04-13
公开(公告)号: CN104730607A 公开(公告)日: 2015-06-24
发明(设计)人: 邹宁宁;王翔;薛超 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;G02F1/1335;G02F1/1333
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;黄灿
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 彩色 滤光 及其 制作方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种彩色滤光片,包括平坦层和隔垫物,其特征在于,所述平坦层和隔垫物为同层同材料设置。

2.根据权利要求1所述的彩色滤光片,其特征在于,所述平坦层和隔垫物的材料为光刻胶。

3.根据权利要求2所述的彩色滤光片,其特征在于,所述平坦层和隔垫物的材料为负性光刻胶。

4.根据权利要求1-3任一项所述的彩色滤光片,其特征在于,所述彩色滤光片具体包括:

设置在衬底基板上的黑矩阵,限定多个像素区域;

滤光层,设置在所述像素区域;

设置在滤光层和黑矩阵上的平坦层和隔垫物。

5.一种权利要求1-4任一项所述的彩色滤光片的制作方法,其特征在于,包括:

形成绝缘薄膜,通过一次构图工艺利用所述绝缘薄膜形成平坦层和隔垫物。

6.根据权利要求5所述的制作方法,其特征在于,所述绝缘薄膜的材料为光刻胶;

形成绝缘薄膜,通过一次构图工艺形成平坦层和隔垫物的步骤包括:

提供一掩膜板;

利用所述掩膜板对所述绝缘薄膜进行曝光,显影后,所述绝缘薄膜形成完全保留区域和部分保留区域,所述完全保留区域的绝缘薄膜形成所述隔垫物,所述部分保留区域的绝缘薄膜形成所述平坦层。

7.根据权利要求6所述的制作方法,其特征在于,所述绝缘薄膜的材料为负性光刻胶;

形成绝缘薄膜,通过一次构图工艺形成平坦层和隔垫物的步骤包括:

提供一掩膜板,所述掩膜板包括完全透光区域和部分透光区域,所述完全透光区域对应所述隔垫物所在的区域,所述部分透光区域对应所述隔垫物以外的区域;

利用所述掩膜板对所述绝缘薄膜进行曝光,显影后,去除所述部分透光区域的部分厚度的绝缘薄膜,使得所述完全透光区域的绝缘薄膜厚度大于所述部分透光区域的绝缘薄膜厚度,所述完全透光区域的绝缘薄膜形成隔垫物,所述部分透光区域的绝缘薄膜形成平坦层。

8.根据权利要求7所述的制作方法,其特征在于,所述平坦层的厚度为1.5±0.2um,所述部分透光区域的透光率为8%~12%。

9.根据权利要求5-8任一项所述的制作方法,其特征在于,所述制作方法具体包括:

在衬底基板上形成黑矩阵,限定多个像素区域;

在所述像素区域形成滤光层;

在所述滤光层和黑矩阵上形成绝缘薄膜,通过一次构图工艺利用所述绝缘薄膜形成平坦层和隔垫物。

10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-4任一项所述的彩色滤光片。

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