[发明专利]一种用于ITO/Ag/ITO薄膜的低张力的蚀刻液

说明书

本申请公开了一种用于ITO/Ag/ITO多层薄膜的低张力的蚀刻液，该蚀刻液由总重量10％～30％的醋酸、1％～20％的硝酸、40％～70％的磷酸、0.1～0.5％的表面活性剂和0.1～5％的硝酸盐组成，余量为去离子水。本申请的蚀刻液，合理调配各组分及用量，使蚀刻液表面张力低，能有效渗透、浸润到需要蚀刻部位，提高蚀刻效率，同时，提高蚀刻角度的准确性。并且，本申请的蚀刻液，能有效的对银含量超过80％的ITO/Ag/ITO进行蚀刻。本申请的蚀刻液腐蚀力相对较低，能够在温和的条件下进行蚀刻，且蚀刻后不会有残渣、线条平整、蚀刻均匀；适合用于高精度图案的ITO/Ag/ITO多层薄膜的蚀刻。

技术领域

本申请涉及蚀刻液领域，特别是涉及一种用于ITO/Ag/ITO薄膜的低张力的蚀刻液。

背景技术

透反射式高电导薄膜是液晶显示器领域重要的电极材料，新型透反射式高电导薄膜已经成为液晶显示器领域中不可或缺的技术。利用高反射、高电导的金属Ag和透明导电氧化物ITO多层复合可以制备出性能优异的透反射式高电导薄膜ITO/Ag/ITO，因此研究ITO/Ag/ITO多层薄膜将具有重要的研究意义和实用价值。

在ITO/Ag/ITO多层薄膜的制备过程中，需要对ITO/Ag/ITO进行蚀刻，以获得所需的图案或结构单元。现有的用于ITO/Ag/ITO薄膜的蚀刻液主要由磷酸、硝酸和醋酸经搅拌混匀过滤制得，其腐蚀力强，蚀刻角度、蚀刻时间和蚀刻精度都难以控制，并且对银含量超过80％的ITO/Ag/ITO蚀刻效果不佳。

发明内容

本申请的目的是提供一种改进的用于ITO/Ag/ITO多层薄膜的低张力的蚀刻液。

为了实现上述目的，本申请采用了以下技术方案：

本申请公开了一种用于ITO/Ag/ITO多层薄膜的低张力的蚀刻液，蚀刻液由总重量10％～30％的醋酸、1％～20％的硝酸、40％～70％的磷酸、0.1～0.5％的表面活性剂和0.1～5％的硝酸盐组成，余量为去离子水。

需要说明的是，本申请的蚀刻液由特定用量的醋酸、硝酸、磷酸、表面活性剂和硝酸盐组成，各组分有机配合，使得蚀刻液能够在温和的条件下对ITO/Ag/ITO多层薄膜进行蚀刻，且蚀刻后不会有残渣、线条平整、精度高；更重要的是，本申请的蚀刻液，其表面张力低，能够渗透、浸润到需要蚀刻的部位，从而提高蚀刻效率，以获得更高的蚀刻均匀性，以及更准确的蚀刻角度。

优选的，硝酸盐为硝酸钾、硝酸钠和硝酸铵中的至少一种。

优选的，表面活性剂为聚氧乙烯、蓖麻油、二甘醇胺、月桂醇硫酸钠、十二烷基苯磺酸钠、甘胆酸钠、单月桂基磷酸酯及其相应的钠盐中的至少一种。

优选的，蚀刻液的表面张力低于70dyn/cm。需要说明的是，按照本申请的各组分及其用量配制，可以获得低张力的蚀刻液，在本申请的一种实现方式中，至少可以低于70dyn/cm；可以理解，在本申请的组分及其用量范围内，还可以根据实际使用情况继续优化，从而得到更低表面张力的蚀刻液，在此不做具体限定。

本申请的另一面公开了本申请的蚀刻液在ITO/Ag/ITO多层薄膜蚀刻中的应用。

本申请的再一面公开了一种ITO/Ag/ITO多层薄膜的蚀刻方法，包括预先将ITO/Ag/ITO多层薄膜依序形成于基板上，涂覆抗蚀涂层图案后，采用本申请的蚀刻液进行蚀刻。

优选的，采用本申请的蚀刻液进行蚀刻的温度为30℃-40℃。更优选的，蚀刻的温度为35℃。

由于采用以上技术方案，本申请的有益效果在于：