[发明专利]基板处理装置有效
申请号: | 201510167195.3 | 申请日: | 2015-04-09 |
公开(公告)号: | CN104972386B | 公开(公告)日: | 2019-05-31 |
发明(设计)人: | 杉山光德;井上正文 | 申请(专利权)人: | 株式会社荏原制作所 |
主分类号: | B24B37/04 | 分类号: | B24B37/04;B24B37/34;B24B37/005;H01L21/67 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人: | 梅高强;刘煜 |
地址: | 日本国东京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 装置 | ||
1.一种基板处理装置,具备:
研磨单元,该研磨单元包含对基板进行研磨处理的至少2个研磨部;
清洗单元,该清洗单元包含第一清洗部(CL1A)、第二清洗部(CL1B)、第三清洗部(CL2A)、以及第四清洗部(CL2B)且对由所述研磨单元研磨后的基板进行清洗处理;
装载/卸载单元,该装载/卸载单元将基板交接给所述研磨单元并且从所述清洗单元接收基板;及
搬送单元,该搬送单元包含对所述基板进行搬送处理的至少1个搬送部,
所述基板处理装置的特征在于,
所述搬送单元构成为:能够从所述第一清洗部(CL1A)、所述第二清洗部(CL1B)、所述第三清洗部(CL2A)、所述第四清洗部(CL2B)中的任意一个取出基板,将取出后的基板配置到所述第一清洗部(CL1A)、所述第二清洗部(CL1B)、所述第三清洗部(CL2A)、所述第四清洗部(CL2B)中的其他的任意一个,
所述基板处理装置具备控制部,该控制部控制将所述基板向所述基板处理装置投入的投入时序,
所述控制部以从所述基板被投入至所述基板处理装置起直到清洗处理结束为止都不会产生待机状态的方式,制作时刻表,所述时刻表包含投入至所述基板处理装置的多个基板的各自的所述研磨部、所述清洗部、及所述搬送部中的处理结束预定时刻,所述控制部根据所述时刻表来控制将所述多个基板向所述基板处理装置投入的投入时序。
2.如权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,
所述控制部根据在所述研磨部及所述清洗部的至少一方中处理所需时间和在所述搬送部中从所述研磨单元到所述清洗单元的搬送处理所需时间的过去的实际的值,来制作所述时刻表。
3.如权利要求1或2所述的基板处理装置,其特征在于,
当制作针对新投入至所述基板处理装置的基板的所述时刻表时,所述控制部计算所述新投入的基板到达所述研磨部、所述清洗部、及所述搬送部的假定到达时刻,将所述假定到达时刻、与先投入至所述基板处理装置的基板的所述研磨部、所述清洗部、及所述搬送部中的处理结束预定时刻进行比较,在相同或相竞争的处理部中存在比所述处理结束预定时刻快的假定到达时刻的情况下,所述控制部将所述快的假定到达时刻与所述处理结束预定时刻之差,相加至到达所述研磨部、所述清洗部、及所述搬送部的假定到达时刻,由此来制作实际到达时刻,且根据所述实际到达时刻来制作所述时刻表。
4.如权利要求3所述的基板处理装置,其特征在于,
在存在多个所述快的假定到达时刻的情况下,所述控制部将所述快的假定到达时刻与所述处理结束预定时刻之差为最大的假定到达时刻与所述处理结束预定时刻之差,相加至到达所述研磨部、所述清洗部、及所述搬送部的假定到达时刻,由此来制作实际到达时刻,且根据所述实际到达时刻来制作所述时刻表。
5.如权利要求3所述的基板处理装置,其特征在于,
在所述相同或相竞争的处理部中不存在比所述处理结束预定时刻快的假定到达时刻的情况下,所述控制部根据所述假定到达时刻来制作所述时刻表。
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