[发明专利]一种表面增强拉曼散射基底及其原位生长方法在审

专利信息
申请号: 201510159499.5 申请日: 2015-04-03
公开(公告)号: CN104807802A 公开(公告)日: 2015-07-29
发明(设计)人: 宋春元;汪联辉;魏玉涵 申请(专利权)人: 南京邮电大学;东南大学
主分类号: G01N21/65 分类号: G01N21/65;C23C18/44
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 李纪昌;曹翠珍
地址: 210003 *** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 表面 增强 散射 基底 及其 原位 生长 方法
【权利要求书】:

1.一种表面增强拉曼散射基底,其特征在于:在经过清洗和表面电荷修饰处理的基片上原位生长单层膜,所述单层膜的材料为金纳米颗粒,且金纳米颗粒的分布密度为1.44-4.77个/μm2;制备方法包括以下步骤:步骤1,配制过氧化氢和浓硫酸的第一混合液,氨水和过氧化氢的第二混合液,浓盐酸和过氧化氢的第三混合液;步骤2,配制氨基硅烷化试剂乙醇溶液,4-苯乙烯磺酸脂钠水溶液,聚二烯丙基二甲基氯化铵水溶液;步骤3,量取0.5ml摩尔浓度为10mM-40mM氯金酸,5ml摩尔浓度200mM十六烷基三甲基氯化铵以及0.25ml摩尔浓度0.3M抗坏血酸配制金纳米颗粒生长液;步骤4,将基片依次浸入第一混合液、第二混合液和第三混合液中,分别煮沸10-20min;步骤5,将经步骤4处理后的基片依次浸入氨基硅烷化试剂乙醇溶液、4-苯乙烯磺酸脂钠水溶液和聚二烯丙基二甲基氯化铵水溶液进行修饰,其中在氨基硅烷化试剂乙醇溶液中过夜处理,在4-苯乙烯磺酸脂钠溶液和聚二烯丙基二甲基氯化铵溶液中处理至少1.5h;步骤6,在湿盒中将金纳米颗粒生长液滴在基片上,湿盒在4℃中静置生长5 -20h后用去离子水冲洗多余的金纳米颗粒生长液,氮气吹干,得表面增强拉曼散射基底成品。

2.根据权利要求1所述的表面增强拉曼散射基底,其特征在于:所述金纳米颗粒形状为球状或花状,颗粒大小为151-511nm。

3.根据权利要求1所述的表面增强拉曼散射基底,其特征在于:所述基片为硅片或玻璃片。

4.根据权利要求1所述的表面增强拉曼散射基底,其特征在于:步骤1中所述第一混合液中,浓硫酸的质量分数为98%,过氧化氢的质量分数为30%,两者的体积比为3:1;所述第二混合液中,过氧化氢的质量分数为30%,氨水的质量分数为28%,去离子水、氨水和过氧化氢的体积比为5:1:1;所述第三混合液中,过氧化氢的质量分数为30%,去离子水、过氧化氢和浓盐酸的体积比为5:2:1。

5.根据权利要求1所述的表面增强拉曼散射基底,其特征在于: 步骤2中,所述氨基硅烷化试剂为3-氨丙基三乙氧基硅烷,且溶液的质量分数为9.8%;4-苯乙烯磺酸脂钠溶液的质量分数为3%,聚二烯丙基二甲基氯化铵溶液的质量分数为2%。

6.根据权利要求1所述的表面增强拉曼散射基底,其特征在于:步骤3中,金纳米颗粒的形状为球状或花状。

7.根据权利要求1所述的表面增强拉曼散射基底,其特征在于:重复步骤6的操作1-3次得表面增强拉曼散射基底。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京邮电大学;东南大学,未经南京邮电大学;东南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510159499.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top