[发明专利]一种用于产生单频低能软X射线光束的装置在审
| 申请号： | 201510158754.4 | 申请日： | 2015-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN104865284A | 公开（公告）日： | 2015-08-26 |
| 发明（设计）人： | 刘勋;苏云;郭崇岭;李维;阮宁娟 | 申请（专利权）人： | 北京空间机电研究所 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223 |
| 代理公司： | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人： | 安丽 |
| 地址： | 100076 北京市丰*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 产生 低能 射线 光束 装置 | ||
1.一种用于产生单频低能软X射线光束的装置，其特征在于：包括X射线光源、X射线光栅、衰减片组和光阑；所述的衰减片组由多个独立的X射线衰减片组成；X射线光源产生X射线后，经X射线光栅和光阑提取X射线目标谱段，再经衰减片组进行能量衰减后输出。
2.根据权利要求1所述的一种用于产生单频低能软X射线光束的装置，其特征在于：所述的光阑材料为铅。
3.根据权利要求1所述的一种用于产生单频低能软X射线光束的装置，其特征在于：所述X射线源为双阳极X射线管。
4.根据权利要求1所述的一种用于产生单频低能软X射线光束的装置，其特征在于：所述光阑放置位置满足可通过X射线目标谱段。
5.根据权利要求1所述的一种用于产生单频低能软X射线光束的装置，其特征在于：所述X射线分光装置选取透射式X射线光栅，光栅周期为500nm，面积10×0.1mm2，金厚度500nm，占空比0.4～0.6，栅线形状为矩形，有效面积70％。
6.根据权利要求1所述的一种用于产生单频低能软X射线光束的装置，其特征在于：所述的X射线衰减片包括聚酰亚胺膜层和铝膜层，使用蒸镀的方法将铝膜层镀在聚酰亚胺膜层上；聚酰亚胺膜层对1keV以下的X射线有衰减屏蔽作用，铝膜对可见光波段具有衰减屏蔽作用。
7.根据权利要求6所述的一种用于产生单频低能软X射线光束的装置，其特征在于：聚酰亚胺的膜层厚度为1um。
8.根据权利要求6所述的一种用于产生单频低能软X射线光束的装置，其特征在于：铝膜层厚度为10纳米或20nm或30nm或40nm或50nm。
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