[发明专利]一种奥美拉唑钠半水合物及其制备方法有效
申请号: | 201510154080.0 | 申请日: | 2015-04-02 |
公开(公告)号: | CN104788426A | 公开(公告)日: | 2015-07-22 |
发明(设计)人: | 鲍颖;陶灵刚;李龙;郝红勋;吕军;侯宝红 | 申请(专利权)人: | 天津大学;海南灵康制药有限公司 |
主分类号: | C07D401/12 | 分类号: | C07D401/12 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人: | 王丽 |
地址: | 300072 天*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 奥美拉唑钠半 水合物 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于化学工程医药结晶技术领域,涉及一种奥美拉唑钠半水合物及其制备方法。
背景技术
奥美拉唑钠(Omeprazole Sodium)化学名为5-甲氧基-2-{[(4-甲氧基-3,5-二甲基-2-吡啶基)甲基]亚磺酰基}-1H-苯并咪唑钠盐,分子式C17H18N3NaO3S,相对分子质量367.4,结构式如下:
奥美拉唑钠是一对活性旋光对映体的消旋混合物,籍由高目标性的作用来降低胃酸的分泌,是胃壁细胞中酸泵的特殊抑制剂。奥美拉唑为脂溶性,可浓集于壁细胞分泌小管周围,转变为有活性的次磺酰胺衍生物。与H2受体阻断剂相比,奥美拉唑钠疗效显著,治愈率高,复发率低。这表明奥美拉唑钠的应用广、市场潜力大。
专利US4738974A报道并制备了含有1到2个水分子的奥美拉唑钠水合物。该水合物稳定性差,易吸湿,其水含量的增加明显不便于下游制剂工艺中的定量装填,因而不便于工业应用。该专利采用奥美拉唑与碱反应、溶析、冷却结晶的制备方法,由于溶析过程过饱和度大,沉淀速率快,得到的是奥美拉唑钠水合物和无定型的混合物,晶型纯度低;而且操作过夜,时间长。
专利WO1999000380A1报道了奥美拉唑钠一水合物(目前市售晶型)。该一水合物稳定性差,热分解温度低,为209.0℃。该专利采用奥美拉唑与碱反应结晶的制备方法,必须使用两种混合溶剂,且结晶操作耗时长,要求10~24小时,效率低。
因此,有必要发明一种优势明显,包括制备过程简单、收率高;热稳定性好、流动性好、不易吸湿的奥美拉唑钠水合物。
发明内容
本发明公开了奥美拉唑钠的一种新的溶剂化物,更具体的为奥美拉唑钠半水合物,即每摩尔奥美拉唑钠半水合物含0.5摩尔水,结构式如(I)所示:
卡尔费休法是各种测定物质中水分方法中最为专一、准确的方法之一,已被列为许多物质中水分测定的标准方法,尤其对有机化合物,结果准确可靠。本发明公开的奥美拉唑钠半水合物用丙酮洗涤、干燥后,用卡尔费休法测定水分重量含量在2.28~2.45%之间,与未经丙酮洗涤的水分含量一致。奥美拉唑钠半水合物理论水含量为2.39%,可确定本发明每个奥美拉唑钠半水合物含有0.5个结晶水。
本发明所述的奥美拉唑钠半水合物的粉末X-射线衍射图谱在衍射角2θ为6.26±0.1,11.10±0.1,12.20±0.1,15.58±0.1,16.02±0.1,17.12±0.1,19.08±0.1,21.00±0.1,22.68±0.1,23.48±0.1,24.08±0.1,26.52±0.1和28.08±0.1度处有特征衍射峰,如附图1所示。X-射线粉末衍射测试条件:日本理学Rigaku D/max 2500X-射线粉末衍射仪,CuKα辐射,光管电压40kV,灯丝电流300mA,连续扫描,步长0.02°,扫描速度8°/min,扫描范围为2~50°。
文献多有报道相同物质的不同晶型、相同物质的不同溶剂化物有相同的粉末X-射线衍射谱图或者有部分相同的粉末X-射线衍射谱图,所以有必要根据《多晶型药品的质量控制技术与方法指导原则》,给出其他的鉴别方法证明本专利报道的是新的水合物。
本发明所述的奥美拉唑钠半水合物,其傅里叶变换红外光谱在波数为3413.5±2,3131.9±2,2969.3±2,2938.8±2,2847.4±2,2755.5±2,1606.7±2,1571.1±2,1473.9±2,1440.5±2,1376.3±2,1266.5±2,1147.0±2,1111.5±2,1073.8±2,1032.3±2,942.3±2,830.2±2,802.6±2,750.6±2和672.7±2cm-1处有特征吸收峰,如附图2所示。傅里叶变换红外光谱测试条件:Nicolet,Nexus470,溴化钾压片。
本发明所述的奥美拉唑钠半水合物,其DSC分析结果显示,在228.5±1℃有分解放热峰,如附图3所示。DSC数据由差示扫描量热仪(DSC1/500,瑞士Mettler Toledo公司)分析得到,分析条件为:样品5~10mg样品置于40μL铝坩埚内,高纯氮气做反应气和保护气,流量分别为50mL/min和20mL/min。升温速率10℃/min,温度范围25~300℃。
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