[发明专利]一种阵列基板及其制造方法、显示装置有效
| 申请号: | 201510148163.9 | 申请日: | 2015-03-31 |
| 公开(公告)号: | CN104698706B | 公开(公告)日: | 2018-05-29 |
| 发明(设计)人: | 董职福;薛伟;宋萍;李红敏 | 申请(专利权)人: | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1343;H01L27/12 |
| 代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 230012 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 阵列基板 像素区 显示装置 防漏光 信号线 电极 衬底基板 垂直投影 绝缘设置 漏光现象 阵列排布 制造 覆盖 应用 | ||
1.一种阵列基板,包括阵列排布的多个像素区,所述像素区包括像素电极,相邻两所述像素区之间设置有信号线,所述像素区与所述信号线之间具有间隙,其特征在于,所述阵列基板还包括至少一个防漏光电极,所述防漏光电极与所述像素区和所述信号线之间绝缘设置,所述防漏光电极在衬底基板的垂直投影至少覆盖所述间隙在所述衬底基板的垂直投影中的一部分;
其中,所述防漏光电极所在层,位于所述像素电极所在层与所述信号线所在层之间;
所述防漏光电极所在层与所述像素电极所在层之间设置有第一绝缘层,所述防漏光电极所在层与所述信号线所在层之间设置有第二绝缘层。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述防漏光电极在所述衬底基板上的垂直投影,覆盖相邻两个所述像素电极在所述衬底基板的垂直投影之间的区域。
3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述信号线为数据线,所述阵列基板还包括电连接所述数据线和所述像素电极的薄膜晶体管;
所述防漏光电极在所述衬底基板的垂直投影,与所述薄膜晶体管在所述衬底基板的垂直投影无交叠。
4.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,相邻两个所述防漏光电极通过连接电极电连接。
5.根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,还包括与所述数据线垂直的公共电极线,所述公共电极线在所述衬底基板的垂直投影与所述像素电极在所述衬底基板的垂直投影之间相互交叠;
所述连接电极在所述衬底基板的垂直投影,位于所述公共电极线在所述衬底基板的垂直投影之内。
6.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-5任一项所述的阵列基板。
7.一种阵列基板的制造方法,其特征在于,包括:
形成信号线;
形成像素区,所述像素区包括像素电极;
形成至少一个防漏光电极;
其中,所述像素区与所述信号线之间具有间隙,所述防漏光电极与所述像素区和所述信号线之间绝缘设置,所述防漏光电极在衬底基板的垂直投影至少覆盖所述间隙在所述衬底基板的垂直投影中的一部分;
所述形成至少一个防漏光电极的步骤具体包括:
在形成有所述信号线的所述衬底基板上形成第二绝缘层;
在形成有所述第二绝缘层的所述衬底基板上形成防漏光电极材料层,通过一次构图工艺形成包括所述防漏光电极的图形;
所述形成像素区的步骤具体包括:
在形成有所述防漏光电极的所述衬底基板上形成第一绝缘层;
在形成有所述第一绝缘层的所述衬底基板上形成像素电极材料层,通过一次构图工艺形成包括所述像素电极的图形。
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