[发明专利]附有金属布线的半导体用清洗剂有效
申请号: | 201510145641.0 | 申请日: | 2011-01-28 |
公开(公告)号: | CN104804903B | 公开(公告)日: | 2018-10-30 |
发明(设计)人: | 中西睦;吉持浩;小路祐吉 | 申请(专利权)人: | 恩特格里斯公司 |
主分类号: | C11D7/60 | 分类号: | C11D7/60;C11D7/26;C11D7/32;C11D10/02;H01L21/02 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 齐杨 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 附有 金属 布线 半导体 洗剂 | ||
1.组合物,其包含环状聚胺、以0.001重量%至2重量%范围内的量存在的具有2至5个羟基的多酚系还原剂、季铵氢氧化物、以0.01重量%至5重量%范围内的量存在的抗坏血酸、水和至少一种复合剂,所述复合剂选自具有1至6个碳原子的芳族及脂族的羟基羧酸及其盐、具有含9至23个碳原子的羟基及含9至23个碳原子的羧基中至少之一的杂环化合物、及具有6至9个碳原子的膦酸及其盐,其中该组合物适用于自微电子装置的表面移除材料,其中该微电子装置包含铜布线或铜合金布线,并且其中该环状聚胺由通式(4)和/或通式(5)表示:
[式4]
其中R1表示氢原子、烷基、氨基烷基、或羟烷基;及R2表示烷基、氨基烷基、或羟烷基,
[式5]
其中R3表示氨基烷基。
2.权利要求1的组合物,其中该材料包含CMP后残留物和/或污染物。
3.权利要求1或2的组合物,其中该多酚系还原剂选自儿茶酚、咖啡酸、茜素、内黄素、漆酚、黄酮、间苯二酚、氢醌、大黄素、连苯三酚、五倍子酸、槲皮素、儿茶素、及花青素。
4.权利要求1或2的组合物,其中该季铵氢氧化物是由以下通式(6)表示的季铵氢氧化物
[式6]
其中R4至R7各独立地表示具有1至4个碳原子的烷基或具有1至4个碳原子的羟烷基。
5.权利要求4的组合物,其中该季铵氢氧化物选自四烷基氢氧化铵、(羟烷基)三烷基氢氧化铵、双(羟烷基)二烷基氢氧化铵、及三(羟烷基)烷基氢氧化铵。
6.权利要求1或2的组合物,其中该环状聚胺选自下组:N-甲基哌嗪、N-乙基哌嗪、N-异丁基哌嗪、N-氨基甲基哌嗪、N-氨基乙基哌嗪、N-氨基丙基哌嗪、N-羟甲基哌嗪、N-羟乙基哌嗪、N-羟丙基哌嗪、1,4-二甲基哌嗪、1,4-二乙基哌嗪、1,4-二异丙基哌嗪、1,4-二丁基哌嗪、1-氨基甲基-4-甲基哌嗪、1-羟甲基-4-甲基哌嗪、1-氨基乙基-4-乙基哌嗪、1-羟乙基-4-乙基哌嗪、1,4-(双氨基乙基)哌嗪、1,4-(双羟乙基)哌嗪、1,4-(双氨基丙基)哌嗪、1,4-(双羟丙基)哌嗪、1-氨基乙基-4-羟乙基哌嗪、1-氨基丙基-4-羟丙基哌嗪、N-氨基乙基吗啉、N-氨基丙基吗啉、N-氨基异丁基吗啉、及其组合。
7.权利要求1或2的组合物,其进一步包含至少一种腐蚀抑制剂。
8.权利要求7的组合物,其中该腐蚀抑制剂包含至少一种选自下组的物质:N-核糖嘌呤、腺苷、鸟苷、2-氨基嘌呤核糖苷、2-甲氧基腺苷、N-甲基腺苷、N,N-二甲基腺苷、三甲基化腺苷、三甲基N-甲基腺苷、C-4’-甲基腺苷、3-脱氧腺苷;腺嘌呤、甲基化腺嘌呤、二甲基化腺嘌呤、N4,N4-二甲基嘧啶-4,5,6-三胺、4,5,6-三氨基嘧啶、尿囊素、羟基化C-O-O-C二聚物、C-C桥连二聚物、核糖、甲基化核糖、四甲基化核糖、甲基化水解二核糖化合物;木糖、葡萄糖、嘌呤、鸟嘌呤、次黄嘌呤、黄嘌呤、可可碱、咖啡因、尿酸、异鸟嘌呤、三氨基嘧啶、及其组合。
9.权利要求1或2的组合物,其中该季铵氢氧化物选自四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、及(羟乙基)三甲基氢氧化铵。
10.权利要求1的组合物,其中所述至少一种复合剂包括脂族羟基羧酸或其盐,或者聚羧酸或其盐。
11.权利要求1的组合物,其中基于该组合物的总重量,环状聚胺的量在0.001重量%至5重量%范围内,季铵氢氧化物的量在0.01重量%至10重量%范围内,复合剂的量在0.001重量%至0.5重量%范围内,以及水的量在69.0重量%至99.9重量%范围内。
12.一种自其上具有CMP后残留物及污染物的微电子装置移除该残留物和/或污染物的方法,该方法包括使该微电子装置与权利要求1至11中任一项的组合物接触足够的时间,以自该微电子装置至少部分清洁该残留物及污染物,其中该微电子装置包含铜布线或铜合金布线。
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