[发明专利]电子照相感光构件、电子照相感光构件的生产方法、处理盒和电子照相设备

说明书

本发明涉及电子照相感光构件、电子照相感光构件的生产方法、处理盒和电子照相设备。电子照相感光构件包括含有电荷输送物质并含有具有特定结构单元的聚碳酸酯树脂A和具有特定结构单元的树脂D作为树脂的电荷输送层，其中电荷输送层具有在包含电荷输送物质和树脂D的基体中的各自包含聚碳酸酯树脂A的区域。

技术领域

本发明涉及电子照相感光构件和电子照相感光构件的生产方法，并涉及各自包括该电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。

背景技术

已盛行开发包含有机光导物质(有时称作电荷产生物质)的电子照相感光构件作为安装在电子照相设备上的电子照相感光构件。电子照相感光构件通常包括支承体和在支承体上的包含电荷产生物质的感光层。另外，感光层通常为由支承体侧顺次层压电荷产生层和电荷输送层而获得的层压型(顺层型(forward layer type))。

在电子照相法中，各种构件(下文中有时称作接触构件)如显影剂、充电构件、清洁刮板、纸和转印构件与电子照相感光构件的表面接触。因此，电子照相感光构件所需的特性包括由于与这些接触构件等的接触应力导致的图像劣化的减少。特别地，近年来，伴以电子照相感光构件的耐久性改进，期望电子照相感光构件进一步持续改进归因于接触应力的图像劣化的减少效果，和抑制反复使用时的电位变化。

为了持续地缓和接触应力并抑制反复使用电子照相感光构件时的电位变化，国际专利WO 2010/008095、日本专利No.4975181和日本专利No.5089815各自提出使用具有引入其分子链中的硅氧烷结构的硅氧烷树脂在表面层形成基体-区域结构(matrix-domainstructure)的方法。国际专利WO 2010/008095中，公开了使用具有引入其中的特定的硅氧烷结构的聚酯树脂可同时实现接触应力的持续缓和和对反复使用电子照相感光构件时的电位变化的抑制。

文献中公开的各电子照相感光构件可同时实现接触应力的持续缓和和对反复使用时的电位变化的抑制。然而，为了实现电子照相设备的高速化和打印张数的增加，期望接触应力的持续缓和和对电位变化的抑制的额外改进。同时，作为本发明的发明人们深入研究的结果，已发现可通过在形成基体-区域结构时引入特定的聚碳酸酯树脂来实现接触应力的持续缓和和对电位变化的抑制的额外改进。

发明内容

本发明的目的为提供同时实现接触应力的持续缓和和对反复使用时的电位变化的抑制的电子照相感光构件，和该电子照相感光构件的生产方法。本发明的另一目的为提供各自包括该电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。

本发明涉及电子照相感光构件，其包括：支承体；支承体上的电荷产生层以及电荷产生层上的包含电荷输送物质和树脂的电荷输送层，其中：电荷输送层为电子照相感光构件的表面层；电荷输送层包含具有区域和基体的基体-区域结构，该区域包括含有由下式(A-1)和(A-2)之一表示的结构单元、由下式(B)表示的结构单元和由下式(C)表示的结构单元的聚碳酸酯树脂A；和基体包括电荷输送物质和包含由下式(D)表示的结构单元的树脂D；聚碳酸酯树脂A中由式(A-1)和(A-2)之一表示的结构单元的含量为5质量％至25质量％，基于聚碳酸酯树脂A的总质量；聚碳酸酯树脂A中由式(B)表示的结构单元的含量为35质量％至65质量％，基于聚碳酸酯树脂A的总质量；且聚碳酸酯树脂A中由式(C)表示的结构单元的含量为10质量％至60质量％，基于聚碳酸酯树脂A的总质量。

式(A-1)中：Z¹¹和Z¹²各自独立地表示具有1-4个碳原子的亚烷基；R¹¹至R¹⁴各自独立地表示具有1-4个碳原子的烷基、或苯基；n¹¹表示括号内结构的重复数，且式(A-1)中n¹¹的平均值在10-150的范围内；