[发明专利]用于制造浮法玻璃板的浮法工艺和浮法玻璃板在审
申请号: | 201510129120.6 | 申请日: | 2015-03-23 |
公开(公告)号: | CN104944749A | 公开(公告)日: | 2015-09-30 |
发明(设计)人: | 安德烈斯·兰格斯多弗;阿明·沃格;格哈德·劳特恩施拉格;约亨·奥克珀;鲁迪格·迪特里希;沃尔夫冈·瓦拉特;彼得·托马斯 | 申请(专利权)人: | 肖特股份有限公司 |
主分类号: | C03B18/02 | 分类号: | C03B18/02 |
代理公司: | 北京思益华伦专利代理事务所(普通合伙) 11418 | 代理人: | 赵飞;郭红丽 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制造 玻璃板 工艺 | ||
1.一种用于在具有浮抛窑(10)和退火窑(12)的拉伸区(9)中制造浮法玻璃板(1)的浮法工艺,其中熔融玻璃连续地进给到熔融金属(13)并在拉伸方向(8)中被拉长以形成厚度D的玻璃带(14),所述玻璃带(14)具有面向所述熔融金属(13)的锡槽侧(15)和背向所述熔融金属(13)的上侧(16),其中,所述玻璃带(14)沿着所述浮抛窑(10)冷却,从所述熔融金属(13)剥离,并进一步传送穿过所述退火窑(12),其中,所述玻璃带(14)沿其纵向轴线上具有两个边界区域,所述边界区域从纵向边缘到带的中间的方向上延伸并且在其之间布置有有用区域,其中,所述玻璃带(14)在所述上侧(16)上具有温度Ttop以及在所述锡槽侧(15)上具有温度Tbottom,其中,在所述退火窑的底部处的温度为Tfloor以及在所述退火窑的顶部处的温度为Tceiling,其特征在于,在所述拉伸区的所述上侧(16)的温度Ttop从Tg+20K降低至Tg-20K的A部分中,在所述玻璃带(14)的所述有用区域中的各位置x处的温差△Tglass=Ttop-Tbottom为大于0K。
2.根据权利要求1所述的浮法工艺,其特征在于,在所述A部分中在所述玻璃带(14)的所述有用区域中的各位置x处的温差△Tglass=Ttop-Tbottom为至少0.25K,优选至少为0.5K,更优选至少1K和特别优选至少1.5K。
3.根据权利要求1或2所述的浮法工艺,其特征在于,在所述A部分中在所述玻璃带(14)的有用区域中的各位置x处的温差△Tlehr=Tceiling-Tfloor为至少15K,优选至少为30K,更优选至少50K和特别优选至少75K。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的浮法工艺,其特征在于,△Tglass/D的比值为至少0.5K/mm,优选至少1K/mm,更优选至少2K/mm,特别优选至少3K/mm。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的浮法工艺,其特征在于,△Tlehr/D的比值为至少30K/mm,优选至少60K/mm,更优选至少100K/mm,特别优选至少150K/mm。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的浮法工艺,其特征在于,所述熔融玻璃具有至少5重量%、优选至少10重量%的三氧化二铝组分。
7.根据权利要求1-6中任一项所述的浮法工艺,其特征在于,所述浮法玻璃板(1)可以化学上高度回火至至少600兆帕的表面压应力CS以及至少30微米的回火层深度DoL。
8.根据权利要求1-7中任一项所述的浮法工艺,其特征在于,所述玻璃带(14)在有用区域中的厚度D为2.0毫米或以下,优选1.0毫米或以下,特别优选在0.3毫米和0.7毫米之间。
9.根据权利要求1-8中任一项所述的浮法工艺,其特征在于,在所述拉伸区的所述上侧的温度Ttop从Tg+50K降低至Tg+20K的B1部分中,或在所述上侧的温度Ttop从Tg-20K降低至Tg-50K的B2部分中,在所述玻璃带(14)的所述有用区域中的各位置x处的温差△Tglass为至少0.25K,优选至少0.5K,更优选至少1K和特别优选至少1.5K,并且优选地,在所述B1或B2部分中在所述玻璃带(14)的所述有用区域中的各位置x处的温差△Tlehr为至少15K,优选至少30K和特别优选至少50K。
10.根据权利要求1-9中任一项所述的浮法工艺,其特征在于,在所述退火窑(12)的长度为至少2米、优选至少5米的任意C部分中,在所述玻璃带(14)的所述有用区域中的各位置x处的温差△Tlehr为至少15K,优选至少30K和特别优选至少50K。
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