[发明专利]一种依靠磁作用力的锁结构有效

专利信息
申请号: 201510122298.8 申请日: 2015-03-20
公开(公告)号: CN104746961B 公开(公告)日: 2017-02-01
发明(设计)人: 林小军 申请(专利权)人: 林小军
主分类号: E05B47/00 分类号: E05B47/00
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司35100 代理人: 蔡学俊
地址: 350300 福建省*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 依靠 作用力 结构
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种依靠磁作用力的锁结构,属于安保装置。

背景技术

现有的锁结构都是采用结构式配合来达到开锁目的,而这种结构式配合的生产过程中对于结构精度要求较高,给生产过程带来了难度,增加了生产成本,降低了生产效率。因此,针对上述问题是本发明的研究对象。

发明内容

为了解决现有的技术不足,本发明提供一种依靠磁作用力的锁结构。

本发明的技术方案在于:

一种依靠磁作用力的锁结构,包括钥匙、锁座及可旋转且具有钥匙插槽的锁芯,其特征在于:所述锁座内设有至少一个的第一销槽,所述锁芯上设有与钥匙插槽不在同一水平面上的至少一个的第一锁销槽道,所述第一锁销槽道内安设有可在第一销槽移动的第一锁销,所述第一锁销上设有第一磁体,所述钥匙上设有可与第一磁体磁力作用的第二磁体。

其中,所述锁座内还设有至少一个的第二销槽,所述锁芯上还设有至少一个的第二锁销槽道,所述第二锁销槽道内安设有可在第二销槽移动的第二锁销;所述第一锁销上设有一凹槽,所述第二锁销的一侧端部顶接在第一锁销凹槽所在的表面上,且位于凹槽随第一锁销运动的路径内。

所述第一锁销通过第一复位弹簧与第一销锁槽道连接;所述第二锁销通过第二复位弹簧与第二销锁槽道连接。

所述第一磁体与第二磁体之间通过磁吸力作用,或者所述第一磁体与第二磁体之间通过磁斥力作用。

本发明的优点在于:本发明构造简单、新颖,操作便捷,安全有保障,能有效提升产品的生产效率和降低生产成本。

附图说明

图1为本发明实施例一的开锁结构剖视示意图,

图2为本发明实施例一的关锁结构剖视示意图,

图3为本发明实施例二的开锁结构剖视示意图,

图4为本发明实施例二的关锁结构剖视示意图,

图5为本发明实施例三的开锁结构示意简图,

图6为本发明实施例四的开锁结构示意简图。

具体实施方式

为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂,下文特举实施例,并配合附图,作详细说明如下。

参考图1至图5,本发明涉及一种依靠磁作用力的锁结构,包括钥匙1、锁座2及可旋转且具有钥匙插槽3的锁芯4,所述锁座内设有至少一个的第一销槽5,所述锁芯上设有与钥匙插槽不在同一水平面上的至少一个的第一锁销槽道6,所述第一锁销槽道内安设有可在第一销槽移动的第一锁销7,所述第一锁销上设有第一磁体8,所述钥匙上设有可与第一磁体磁力作用的第二磁体9,第一磁体或者第二磁体数量不局限于一个。上述锁座内还设有至少一个的第二销槽12,所述锁芯上还设有至少一个的第二锁销槽道13,所述第二锁销槽道内安设有可在第二销槽移动的第二锁销14;上述第一锁销上设有一凹槽15,所述第二锁销的一侧端部顶接在第一锁销凹槽所在的表面上,且位于凹槽随第一锁销运动的路径内,该第二锁销的一侧端部为能安设在凹槽内的凸状。

上述第一锁销上端设有凸部10,该凸部通过第一复位弹簧11与第一销锁槽道连接,上述第二锁销侧端设有凸部16,该凸部通过第二复位弹簧17与第二销锁槽道连接。

上述第一磁体与第二磁体之间通过磁吸力作用,或者所述第一磁体与第二磁体之间通过磁斥力作用。

如图5所示,可利用锁销自身重力来实现开锁,复位是利用第一锁销移动把第二锁销顶开,实现闭锁。

本方案在实施过程中还可以将锁销分断,如图6所示的分成两个小节,在未被磁力作用时,小节中的一个会阻碍开锁,当磁力作用时,两小节顶接部分刚好处于开锁位置,从而完成后续开锁,为了保障开锁顺利,可将两顶接面设置成圆弧状。

具体实施过程:

在钥匙未插入钥匙插槽内时,由于第一复位弹簧的作用,使第一锁销的外端顶在第一锁座的销槽内,从而完成“锁”的要求;当钥匙插入钥匙插槽内时并达到设定位置时,这时钥匙上的第二磁体刚好对应第一锁销上第一磁体的位置,使第二磁体与第一磁体磁作用,第一磁体在作用后会使第一锁销的外端脱离第一锁座销槽,同时,第二锁销的上端由于第一锁销的移动,使其落入到第一锁销的凹槽内,进而使第二锁销的下端脱离第二销槽,在第一锁销及第二锁销均脱离其锁座销槽后才完成“开”的要求。在具体实施过程中,第二锁销可根据需要进行设置,无特殊要求可只要第一锁销的作用即可。为了增加秘钥量,可增设多个第一锁销及第二锁销,钥匙上也对应设置多个磁体,从而通过不同磁力作用使钥匙具有多重保护能力。

以上所述仅为本发明的较佳实施例,凡依本发明申请专利范围所做的均等变化与修饰,皆应属本发明的涵盖范围。

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