[发明专利]显示装置无效

专利信息
申请号: 201510119035.1 申请日: 2015-03-18
公开(公告)号: CN105093529A 公开(公告)日: 2015-11-25
发明(设计)人: 泽田进平;堀内一男;爰岛快行;马场雅裕 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: G02B27/01 分类号: G02B27/01
代理公司: 上海市华诚律师事务所 31210 代理人: 谈晨雯
地址: 日本东京都*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示装置,其特征在于,包含:

显示单元,包括发射第一光的第一像素和发射第二光的第二像素;

第一光学元件,所述第一光学元件具有入射表面和发射表面,所述第一光和所述第二光被入射在所述入射表面上,所述第一光和第二光从所述发射表面被发射;以及

反射部,反射至少一部分从所述发射表面发射的所述第一光和至少一部分从所述发射表面发射的所述第二光的,

在所述入射表面处的所述第一光的射线束的直径是第一值,

在所述入射表面处的所述第二光的射线束的直径是第二值,

在所述发射表面处的所述第一光的射线束的直径是不同于所述第一值的第三值,

在所述发射表面处的所述第二光的射线束的直径是不同于所述第三值的第四值,

所述第三值对所述第一值的比率不同于所述第四值对所述第二值的比率。

2.如权利要求1所述的装置,其特征在于,

所述显示单元具有第一端部、和与所述第一端部分离的第二端部,

所述第一端部和所述反射部之间的距离比所述第二端部和所述反射部之间的距离更短,

所述第一像素被设置在所述第一端部和所述第二端部之间,

所述第二像素被设置在所述第一像素和所述第二端部之间,并且

所述第三值对所述第一值的比率低于所述第四值对所述第二值的比率。

3.如权利要求1所述的装置,其特征在于,

所述第一光从所述第一光学元件至所述反射部的光程长度比所述第二光从所述第一光学元件至所述反射部的光程长度更长,并且

所述第三值对所述第一值的比率低于所述第四值对所述第二值的比率。

4.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述第一光在所述第一光学元件内部的光程长度比所述第二光在所述第一光学元件内部的光程长度更短。

5.如权利要求1所述的装置,其特征在于,

所述第一光学元件包括第一部分和第二部分,所述第一光穿过所述第一部分,所述第二光穿过所述第二部分,并且

所述第一光学元件的所述第一部分的厚度比所述第二部分的厚度更薄。

6.如权利要求1所述的装置,其特征在于,

所述第一光学元件包括第一部分和第二部分,所述第一光穿过所述第一部分,所述第二光穿过所述第二部分,并且

所述第一部分的折射率低于所述第二部分的折射率。

7.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述第一光学元件是偏轴透镜。

8.如权利要求1所述的装置,其特征在于,进一步地包含改变所述第一光的行进方向和所述第二光的行进方向的第二光学元件,所述第二光学元件被设置在所述显示单元和所述反射部之间,所述第一光和所述第二光被入射在所述第二光学元件上,

所述第一光学元件的第一光轴相对于所述第二光学元件的第二光轴倾斜。

9.如权利要求8所述的装置,其特征在于,

所述反射部具有第一表面并沿着所述第一表面伸展,并且

所述第一光轴和切平面之间的角大于所述切平面和所述第二光轴之间的角,所述切平面与所述第一表面相切并且经过所述第一光轴和所述第一表面的交点。

10.如权利要求8所述的装置,其特征在于,

所述第二光学元件包括第三部分和第四部分,

所述第三部分和所述反射部之间的距离比所述第四部分和所述反射部之间的距离更短,并且

所述第三部分和所述显示单元之间的距离比所述第四部分和所述显示单元之间的距离更长。

11.如权利要求1所述的装置,其特征在于,进一步地包含被设置在所述显示单元和所述反射部之间的棱镜,所述棱镜改变被入射在所述棱镜上的光的行进方向。

12.如权利要求1所述的装置,其特征在于,

所述第一像素和所述第二像素被配置在第一平面中,并且

垂直于所述第一平面的垂直方向相对于所述第一光学元件的第一光轴倾斜。

13.如权利要求12所述的装置,其特征在于,

所述反射部具有第一表面并沿着所述第一表面伸展,并且

所述第一光轴和切平面之间的角大于所述切平面和所述垂直方向之间的角,所述切平面与所述第一表面相切并且经过所述第一光轴和所述第一表面的交点。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510119035.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top