[发明专利]一种彩膜基板的制作方法、彩膜基板以及液晶显示面板

权利要求书

1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述彩膜基板的制作方法包括：

提供一基板，所述基板包括彩膜区域、W子像素区域、以及黑色矩阵区域；

在所述基板的整个表面上均涂覆一第一OC层；

对所述第一OC层进行曝光、显影、以及刻蚀工艺操作，保留所述W子像素区域的所述第一OC层，其他区域的所述第一OC层均去除；

在所述基板上沉积一黑色矩阵层；沉积的所述黑色矩阵层的厚度与所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度相同；

对所述黑色矩阵层进行曝光、显影、以及刻蚀工艺操作，保留所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层，其他区域的所述黑色矩阵层均去除；

在所述基板上的所述彩膜区域涂布RGB色阻层，以形成RGB彩膜，其中，所述RGB彩膜的厚度、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层的厚度、以及所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度均相同；

在所述基板上整体涂覆平坦的第二OC层；以及

在所述第二OC层上沉积透明金属层，以形成透明电极。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，在所述基板上涂覆第二OC层的步骤，具体包括：

在所述彩膜区域的所述RGB色阻层上、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层上、以及所述W子像素区域的所述第一OC层上均涂覆所述第二OC层。

3.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述彩膜基板的一个像素对应一个R彩膜、一个G彩膜、一个B彩膜、以及一个W子像素。

4.一种包括如权利要求1至3任一项所述的彩膜基板的制作方法的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括：

一基板，所述基板包括彩膜区域、W子像素区域、以及黑色矩阵区域；

一第一OC层，设置于所述基板上的所述W子像素区域；

一黑色矩阵层，设置于所述基板上的所述黑色矩阵区域；所述黑色矩阵层的厚度与所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度相同；

一RGB色阻层，设置于所述基板上的所述彩膜区域；

一第二OC层，设置于所述彩膜区域的所述RGB色阻层上、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层上、以及所述W子像素区域的所述第一OC层上；所述第二OC层为整面涂覆且平坦的第二OC层；

一透明金属层，设置于所述第二OC层上；

其中，所述RGB彩膜的厚度与所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度相同。

5.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述RGB彩膜的厚度、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层的厚度、以及所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度均相同。

6.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板的一个像素对应一个R彩膜、一个G彩膜、一个B彩膜、以及一个W子像素。

7.一种包括如权利要求1至3任一项所述的彩膜基板的制作方法的液晶显示面板，其特征在于，所述液晶显示面板包括：阵列基板、彩膜基板、以及设置于所述阵列基板与所述彩膜基板之间的液晶层；

其中，所述彩膜基板包括：

一基板，所述基板包括彩膜区域、W子像素区域、以及黑色矩阵区域；

一第一OC层，设置于所述基板上的所述W子像素区域；

一黑色矩阵层，设置于所述基板上的所述黑色矩阵区域；所述黑色矩阵层的厚度与所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度相同；

一RGB色阻层，设置于所述基板上的所述彩膜区域；

一第二OC层，设置于所述彩膜区域的所述RGB色阻层上、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层上、以及所述W子像素区域的所述第一OC层上；所述第二OC层为整面涂覆且平坦的第二OC层；

一透明金属层，设置于所述第二OC层上；

其中，所述RGB彩膜的厚度与所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度相同。

8.根据权利要求7所述的液晶显示面板，其特征在于，所述RGB彩膜的厚度、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层的厚度、以及所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度均相同。