[发明专利]液晶显示基板及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201510117047.0 申请日: 2015-03-17
公开(公告)号: CN104656315B 公开(公告)日: 2017-08-25
发明(设计)人: 黄助兵;敬辉;王晓峰;阮德发;于德 申请(专利权)人: 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;G02F1/1339
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 代理人: 柴亮,张天舒
地址: 230012 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 液晶显示 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种液晶显示基板,包括多个显示结构,以及位于所有显示结构上方的配向层,其中至少部分所述显示结构中设有过孔,其特征在于,

至少部分所述过孔被挡墙围绕,所述挡墙位于所述配向层之下;

所述挡墙至少位于一层所述过孔周边的显示结构之下;

所述挡墙与至少一显示结构同层设置。

2.根据权利要求1所述的液晶显示基板,其特征在于,

所述配向层是由配向液固化形成的,所述挡墙的高度大于等于用于形成所述配向层的配向液的厚度。

3.根据权利要求1所述的液晶显示基板,其特征在于,

所述配向层是由配向液固化形成的,所述挡墙的高度小于等于用于形成所述配向层的配向液的厚度,而大于等于配向层的厚度。

4.根据权利要求1所述的液晶显示基板,其特征在于,

所述挡墙的宽度在1000nm~100000nm。

5.根据权利要求1至4中任意一项所述的液晶显示基板,其特征在于,

所述挡墙由多层子挡墙组成。

6.根据权利要求1至4中任意一项所述的液晶显示基板,其特征在于,

所述挡墙由导电材料构成。

7.根据权利要求1至4中任意一项所述的液晶显示基板,其特征在于,所述液晶显示基板为阵列基板;其中,

所述显示结构包括薄膜晶体管的漏极、覆盖所述漏极的钝化层、位于所述钝化层上的像素电极;

所述过孔包括钝化层中的过孔,所述像素电极通过所述过孔与薄膜晶体管的漏极连接。

8.一种液晶显示基板的制备方法,所述液晶显示基板为权利要求1至7中任意一项所述的液晶显示基板,其特征在于,液晶显示基板的制备方法包括:

在基底上形成包括所述挡墙的图形;

在所有显示结构制备完成后,在完成前述步骤的基底上涂布配向液,使配向液固化形成配向层。

9.根据权利要求8所述的液晶显示基板的制备方法,其特征在于,所述在基底上形成包括所述挡墙的图形包括:

在基底上同时形成包括至少一显示结构和所述挡墙的图形。

10.根据权利要求8所述的液晶显示基板的制备方法,其特征在于,所述在基底上形成包括所述挡墙的图形包括:

在基底上单独所述挡墙的图形。

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