[发明专利]具有减小的膨胀和密封环境隔离涂层的制品及其制造方法有效
| 申请号: | 201510110434.1 | 申请日: | 2015-03-13 |
| 公开(公告)号: | CN104908396B | 公开(公告)日: | 2019-08-20 |
| 发明(设计)人: | L.S.罗森斯维希;R.萨拉菲-诺尔 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 |
| 主分类号: | C04B41/87 | 分类号: | C04B41/87 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 周李军;徐厚才 |
| 地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 自封层 密封 环境隔离涂层 粘合涂层 中间层 碱土金属铝硅酸盐 膨胀 高温热处理 混合物形成 稀土硅酸盐 二氧化硅 方法适合 隔离材料 隔离涂层 机器组件 密封环境 惰性的 面涂层 减小 制造 | ||
1.一种制品(200),所述制品(200)包括:
基体(202);和
在所述基体(202)上布置的环境隔离涂层(210),
其中所述环境隔离涂层(210)包括从包含碱土金属铝硅酸盐和稀土硅酸盐的混合物形成的至少一个密封自封层(212),其中所述碱土金属铝硅酸盐包括铝硅酸钡锶(BSAS),且其中所述混合物包含10%体积-50%体积的量的碱土金属铝硅酸盐,其中所述混合物包含50%体积-90%体积的量的稀土硅酸盐,
其中所述环境隔离涂层(210)进一步包括在所述基体(202)和所述密封自封层(212)之间布置的粘合涂层(204),
其中所述环境隔离涂层(210)进一步包括在所述密封自封层(212)和所述粘合涂层(204)之间布置并且与所述密封自封层(212)和所述粘合涂层(204)均直接接触的中间层(216),其中所述中间层(216)包括对二氧化硅基本惰性的隔离材料,其中所述隔离材料包括稀土二硅酸盐,并且其中在经受高温热处理时,所述至少一个密封自封层(212)显示基本没有净剩余或残余膨胀。
2.权利要求1的制品(200),其中所述稀土硅酸盐选自稀土单硅酸盐和稀土二硅酸盐。
3.权利要求2的制品(200),其中所述稀土单硅酸盐选自单硅酸钇(YMS)、单硅酸镱(YbMS)、单硅酸镥(LuMS)及它们的组合。
4.权利要求2的制品(200),其中所述稀土二硅酸盐选自二硅酸钇(YDS)、二硅酸镱(YbDS)、二硅酸镥(LuDS)及它们的任何组合,所述组合选自二硅酸镱-钇(YbYDS)、二硅酸镥-钇(LuYDS)和二硅酸镥-镱-钇(LuYbYDS)。
5.权利要求1的制品(200),其中所述粘合涂层(204)包括硅或金属硅化物。
6.权利要求1的制品(200),其中所述粘合涂层(204)包括至少一种选自元素硅和硅化物的材料。
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