[发明专利]一种施加磁场快速盐浴氮化的方法在审

专利信息
申请号: 201510109732.9 申请日: 2015-03-12
公开(公告)号: CN104775089A 公开(公告)日: 2015-07-15
发明(设计)人: 胡静;周正寿;戴明阳 申请(专利权)人: 常州大学
主分类号: C23C8/48 分类号: C23C8/48
代理公司: 常州市维益专利事务所 32211 代理人: 王凌霄
地址: 213164 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 施加 磁场 快速 氮化 方法
【权利要求书】:

1.一种施加磁场快速盐浴氮化的方法,其特征是:包括以下步骤:

(1)清洗:对待处理零部件进行清洗,去除表面油污及其他杂质;

(2)预氧化:将清洗后的零部件放入电阻炉内进行预氧化,预氧化温度为350~450℃,时间15~30min;

(3)将氮化炉升温至450~480℃进行保温,待氮化炉中坩埚内的氮化基盐充分熔化后,升温至氮化温度;

(4)施加磁场氮化:将预氧化的零部件放入步骤(3)的氮化炉中进行盐浴氮化,氮化炉内施加0~2T的磁场,渗氮温度为500~570℃,渗氮时间为30~150分钟;

(5)后清洗:将氮化后的零部件用水清洗,水温为15~25℃,烘干。

2.根据权利要求1所述的一种施加磁场快速盐浴氮化的方法,其特征是:所述的步骤(4)中的氮化炉内施加0.5T的磁场,渗氮温度为565℃,渗氮时间为50分钟。

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