[发明专利]在镁合金表面形成保护披覆层的方法及其保护披覆层

权利要求书

1.一种在镁合金表面形成保护披覆层的方法，其特征在于其包含下列步骤：

提供一基板，该基板为选自镁、镁铝合金、镁锂合金或镁铝锌合金其中一种或其组合；于该基板上形成一氧化保护层，该氧化保护层由结晶状多孔陶瓷所构成；

于该氧化保护层上披覆一纳米贵金属螯合层，该纳米贵金属螯合层以喷涂、浸渍或印刷方法之一涂布一纳米贵金属螯合剂溶液，经干燥所形成；

其中，该纳米贵金属螯合剂溶液为一纳米贵金属螯合剂的水溶液、溶剂溶液；该纳米贵金属螯合剂为金、银、钯、铂或钌的贵金属粒子附着于一高分子螯合剂所构成，该纳米贵金属螯合剂具有金属催化活性；

其中，该纳米贵金属螯合剂的该高分子螯合剂为具有温度变性特性；其中，温度变性特性为在设定的该纳米贵金属螯合剂溶液温度区间为亲水性，当温度高于或低于该纳米贵金属螯合剂溶液温度区间时，该高分子螯合剂转变为疏水性；

其中，该纳米贵金属螯合剂的该高分子螯合剂系为：A、B、C、D其中一种或其组合，其中，A为高分子单体(P)与N-异丙基丙烯酰胺单体的共聚物(Poly(P-Co-NIPAAmb))、B为高分子单体(P)与羟丙基纤维素的共聚物(Poly(P-hydroxypropylcellulose))、C为高分子单体(P)与聚乙烯基己内酰胺的共聚物(Poly(P-poly(vinylcaprolactame))、D为高分子单体(P)与聚乙烯基甲醚的共聚物(Poly(P-poly(vinyl methyl ether))其中一种或其组合；其中高分子单体(P)可选用下列的单体分子：苯乙烯(P1)(Styrene)、丙烯酸(P2)(Acrylic acid)、甲基丙烯酸(P3)(Methacrylic acid)、丙烯酸甲酯(P4)(Methyl acrylate)或甲基丙烯酸甲酯(P5)(Methyl methacrylate)单体、乙烯(P6)(Ethylene)单体、丙烯(P7)(Propylene)单体、氯乙烯(P8)(Vinyl chloride)单体其中一种或其组合；

于该纳米贵金属螯合层上形成一第一金属层，该第一金属层为以无电电镀方法所形成的镍金属层、铜金属层、银金属层、锡金属层、钯金属层、金金属层其中一种或其相互组成的多层。

2.如权利要求1所述的在镁合金表面形成保护披覆层的方法，其中该氧化保护层由阳极处理方法、微弧氧化方法或电浆处理方法其中一种所形成，其成份为由下列群组其中一种或其组合所组成：(1)氧化镁、氢氧化镁、氧化铝、与氢氧化铝其中一种或其组合，(2)磷酸铝、磷酸镁、磷酸钙其中一种或其组合，(3)硼酸铝、硼酸镁其中一种或其组合，(4)硅酸铝、硅酸镁其中一种或其组合，(5)铝酸镁、钨酸镁、钒酸镁、偏钒酸镁、硫酸镁其中一种或其组合。

3.如权利要求1所述的在镁合金表面形成保护披覆层的方法，其中进一步先于该氧化保护层上先披覆一表面改质层，于该表面改质层上再披覆该纳米贵金属螯合层；其中，该表面改质层涂布一高分子硅烷聚合物，该高分子硅烷聚合物为具有硅烷基的高分子与单体所聚合而成，该高分子硅烷聚合物选自于3-氨丙基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、3-氨丙基三甲氧基硅烷、4-氨丁基三乙氧基硅烷、N-(β-氨乙基)-γ-氨丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氨丙基甲基二乙氧基硅烷、3-氨基丙基二异丙基乙氧基硅烷、3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷其中一种或其组合的溶液。

4.如权利要求1所述的在镁合金表面形成保护披覆层的方法，其中进一步于该第一金属层上以喷涂、浸渍或印刷其中一种或组合的方法，形成一涂料层，该涂料层选自于有机高分子涂料、无机硅涂料、有机与无机复合涂料、防指纹涂料其中一种或其组合；其中，防指纹涂料选自于氟化镁铝氧MgAlO_XF_Y、氟硅氧烷、氟化碳氮C_XN_(1-X)F_Y、氟化非晶二氧化硅SiO_XF_Y、氟化非晶氧化铝AlO_XF_Y、聚四氟乙烯、氯氟苯脲、金属氮氧化物MeON或商品ECC－4000、UM-6211其中一种或其组合所构成的涂料；其中下标X、Y为数字；其中，金属氮氧化物的金属Me为钛、铝、硅、铬及锆其中一种或其组合。