[发明专利]一种釉面陶瓷砖生产工艺及其生产系统

权利要求书

1.一种釉面陶瓷砖生产工艺，其特征在于，包括以下步骤：

1)制浆：将矿物原料加入球磨机，加水制成泥浆；浆的含水量控制为30-40％；

2)喷雾干燥：泥浆经喷雾干燥塔干燥制成颗粒状粉料，颗粒状粉料的含水量控制为7％-9％；

3)压制成型：粉料经模具压制成型，得成型坯体；

4)干燥：成型坯体经干燥窑内自70-80℃至300-320℃阶梯式升温干燥，自然冷却至70-80℃；

5)施釉：在自然冷却后的坯体表面均匀地喷涂一层釉浆；施釉后水分控制为0.8％-1.0％；

6)二次烘干：将施釉后的坯体烘干至水分含量为0.3％-0.4％；二次烘干窑的干燥温度控制为200-250℃；

7)坯体烧制：坯体在窑炉中依次经排烟段、氧化段、烧成段、急冷段和缓冷段烧制成成品；坯体在排烟段中，自200-210℃在4.0-4.5min内缓慢加热至420-430℃；在烧成段中以1180-1192℃烧成；烧成的坯体经急冷段在1-2min内迅速冷却至580-650℃，再经缓冷段在6-7min内冷却至150-170℃。

2.一种适用于权利要求1所述的釉面陶瓷砖生产工艺的生产系统，其特征在于，包括依次连接的进砖平台、施釉线、二次烘干窑、露天平台、窑炉；

所述窑炉包括依次连接的排烟段、氧化段、烧成段、急冷段、缓冷段；

所述二次烘干窑的热源来自急冷段和缓冷段的冷却余热；所述二次烘干窑的水汽通过排烟段抽走。