[发明专利]含二苯砜噻二唑硫醚的二巯基高折射率单体及合成方法有效

专利信息
申请号: 201510098886.2 申请日: 2015-03-05
公开(公告)号: CN104672175B 公开(公告)日: 2017-03-01
发明(设计)人: 徐卫兵;陈凯;毛亚俊;周正发 申请(专利权)人: 合肥工业大学
主分类号: C07D285/125 分类号: C07D285/125;C07D417/14
代理公司: 合肥天明专利事务所(普通合伙)34115 代理人: 孙永刚,奚华保
地址: 230009 *** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 含二苯砜噻二唑硫醚 巯基 折射率 单体 合成 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及光学树脂技术领域,具体是涉及一种含二苯砜噻二唑硫醚的二巯基高折射率单体及合成方法。

背景技术

由于具有高折射率的光学材料在光纤、LED封装材料、建筑材料、触摸屏、镜片树脂、光学滤镜、光电器件以及减反射涂层领域中具有很好的的发展前景,因此高折射率光学材料一直是人们重点研究的材料之一。

传统无机材料虽然具有很高的折射率,但无机材料因为密度大,韧性差,不易加工,不易染色,尤其是在制备减反射涂层中,由于不易做到无机材料的折射率连续可调,这就无疑增加了加工过程的成本。

相比较于无机材料,光学树脂由于其质轻、抗冲击、易加工成型、可染色及优异的光学性能,越来越受到人们的青睐。但是,通常光学树脂的折射率只能通过基团的改变在一个相对较小的范围内进行调节,较低的折射率且综合性能不太理想限制了光学树脂的适用范围,所以合成新的高性能透明树脂成为光学塑料发展的必然趋势,根据经典的电磁理论,为提高树脂的折射率,可以通过在聚合物分子结构中引入具有较高的摩尔折射度和较小分子体积的基团,如硫、苯环、卤素、重金属等。

含硫光学树脂具有折光指数高,色散低,比重小,环境稳定性好,固化成膜后机械性能优异,耐刮擦性强等优点,因此含硫树脂的综合性能一般优于其它树脂,也是近几年研究较为热门的一类光学树脂。本发明就采用引入硫醚和砜基来制备一种含二苯砜噻二唑硫醚的二巯基高折射率单体。

发明内容

本发明要解决的技术问题为克服现有技术中的不足指出,提供一种含二苯砜噻二唑硫醚的二巯基高折射率单体,该单体不仅自身具有较高的折射率,而且采用多种方法制备成聚合物后,其聚合物也有着很高的折射率,同时满足作为光学材料要求的透光率以及较好的机械性能,拓宽了实际应用范围,可作为减反射涂层,LED封装材料等多种场合使用。

本发明要解决的另一个技术问题为提供上述含二苯砜噻二唑硫醚的二巯基高折射率单体的合成方法。

为解决本发明的技术问题,所采用的技术方案为:一种含二苯砜噻二唑硫醚的二巯基高折射率单体,其分子结构如式(I)所示:

为了解决本发明的另一个技术问题,所采用的技术方案为:所述含二苯砜噻二唑硫醚的二巯基高折射率单体的合成方法,包括Williamson合成法,在保护气氛条件下,将2,5-二巯基-1,3,4-噻二唑、碱以及4,4’-二氯二苯砜于反应容器中反应过夜,反应温度为150~240℃,反应结束后冷却,加入萃取剂,收集有机相,用水洗去无机物,再用醇洗去未反应掉的反应物,干燥产物,得到式(Ⅰ)所示树脂单体。

合成方法中,2,5-二巯基-1,3,4-噻二唑与碱的摩尔比为1:0.5~1.1,2,5-二巯基-1,3,4-噻二唑与4,4’-二氯二苯砜的摩尔比为2~2.6:1。

合成方法中,所述碱可以是强碱也可以是弱碱,只要满足能使巯基转变为硫负离子的物质即可,优选采用NaOH、KOH、Na2CO3、K2CO3、NaHCO3、KHCO3、三乙胺和对二甲胺基吡啶中的一种或几种的混合物。

合成方法中,所述萃取剂为水和二氯甲烷混合体系。

合成方法中,洗去未反应掉的反应物为能溶解反应物而不溶解产物的物质,优选采用无水乙醇、无水甲醇。

合成方法中,干燥首先采用无水Na2SO干燥,滤除Na2SO4后减压蒸干二氯甲烷,得到黄色固体,再于80℃真空干燥过夜。

通过上述合成方法制备的含二苯砜噻二唑硫醚的二巯基高折射率单体,将其与环氧氯丙烷反应制备得到的环氧单体,如式(Ⅱ)所示,

该环氧单体再经胺类或者酸酐类固化剂固化,或者与异氰酸酯制备合成多种新型高折射率光学用树脂。

本发明相对于现有技术,其有益效果是:

1)、该含二苯砜噻二唑硫醚的二巯基高折射率单体含有硫醚键和砜基的对称二巯基分子,在保证较高折射率的基础上解决了后续反应选择反应物的问题,两端的巯基可以与多种官能团反应制备相应的具有较高折射率的聚合物,并且具有较好的透光率、机械性能以及附着力,可作为减反射涂层以及LED封装等多种场合的应用。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥工业大学,未经合肥工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510098886.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top