[发明专利]激光晶化光路系统、低温多晶硅薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种激光晶化光路系统，其特征在于，在所述激光晶化光路系统中设置有干涉模块，所述干涉模块包括相互平行的第一全反镜、第二全反镜、及第一半透半反镜，所述第一半透半反镜设于第一全反镜与第二全反镜之间，所述第一全反镜的角度可调节，使用时调节所述第一全反镜的角度使其偏移所述平行方向。

2.如权利要求1所述的一种激光晶化光路系统，其特征在于，所述第一全反镜安装在高精度的角度位移台上。

3.如权利要求2所述的一种激光晶化光路系统，其特征在于，所述第一半透半反镜及第二全反镜与水平方向的夹角为45度。

4.如权利要求1所述的一种激光晶化光路系统，其特征在于，所述第一全反镜、第一半透半反镜及第二全反镜安装在同一直线导轨上，所述第一全反镜、第一半透半反镜及第二全反镜之间的间距可调。

5.如权利要求4所述的一种激光晶化光路系统，其特征在于，所述第一全反镜与第一半透半反镜之间的间距及第一半透半反镜与第二全反镜之间的间距相同。

6.如权利要求1至5中任一所述的一种激光晶化光路系统，其特征在于，所述第一全反镜及第二全反镜为全反射平面镜，所述第一半透半反镜为半透射半反射平面镜。

7.如权利要求6所述的一种激光晶化光路系统，其特征在于，还依次包括扩束模块、混光模块、均束模块、光束整形模块及投影模块，在所述均束模块与光束整形模块之间设置所述干涉模块，所述混光模块为至少两台激光器发出的激光混光。

8.如权利要求7所述的一种激光晶化光路系统，其特征在于，所述激光器为脉冲激光器或连续光激光器。

9.一种制备低温多晶硅薄膜的方法，其特征在于，包括：

形成位于玻璃基板缓冲层之上的非晶硅薄膜，

采用如权利要求1至8任一项所述的激光晶化光路系统对所述非晶硅薄膜进行激光照射，形成所述低温多晶硅薄膜。