[发明专利]一种青瓷及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201510091369.2 申请日: 2015-02-28
公开(公告)号: CN104649651A 公开(公告)日: 2015-05-27
发明(设计)人: 周汉新 申请(专利权)人: 深圳职业技术学院
主分类号: C04B33/22 分类号: C04B33/22;C04B33/24
代理公司: 深圳市精英专利事务所 44242 代理人: 任哲夫
地址: 518000 *** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 青瓷 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种青瓷的制备方法,包括高岭土处理、大理石和闪长石处理、胎土配制、釉料配制、坯体成型与素烧、坯体施釉、烧制;其特征在于,所述高岭土处理的方法如下:

S1:将高岭土加热干燥后粉碎;

S2:粉碎的高岭土用8-10m/s的劲风扬吹形成原料堆,将高岭土原料堆分成A0-1原料和B1-2原料;所述的A0-1原料为原料堆沿劲风扬吹方向0-1m之间的高岭土,B1-2原料为原料堆沿劲风扬吹方向1-2m之间的高岭土;

S3:将B1-2原料用1.0-1.5m/s的水流冲刷后沉淀形成沉淀层,从上到下取上层五分之一厚度的沉淀层作为Y1原料,取五分之一至十分之九厚度的沉淀层为T1原料;将A0-1原料用1.0-1.5m/s的水流冲刷后沉淀形成沉淀层,从上到下取上层五分之一厚度的沉淀层作为Y2原料,取五分之一至十分之九厚度的沉淀层为T2原料;

S4:将T1原料、T2原料分别与水按1:3比例混合后球磨4-5小时,过60目筛后压力去水,得到对应的T1胎土原料、T2胎土原料;将Y1原料、Y2原料分别与水按1:4比例混合后球磨20-25小时,过120目筛,干燥后得到对应的Y1釉原料、Y2釉原料。

2.根据权利要求1所述的青瓷的制备方法,其特征在于,所述大理石和闪长石处理的方法如下:

分别以大理石、闪长石作为原料,将原料敲碎,然后送如窑中900±50℃煅烧,煅烧后的原料直接高温倾入冷水中分解和碎化,取出后的原料与水按1:4的比例球磨20-25小时后,过120目筛,沉淀后去除底层1-2cm厚度的含杂质较多的部分,余料装入密封容器备用,得到相应的大理石原料、闪长石原料。

3.根据权利要求2所述的青瓷的制备方法,其特征在于,所述胎土配制的方法如下:

按重量份,将50-60份T1胎土原料、25-35份T2胎土原料、0-5份大理石原料、2-5份闪长石原料、5-10份粘土投入真空练泥机中练泥,充分均匀后置于保湿环境中陈腐60天以上。

4.根据权利要求2所述的青瓷的制备方法,其特征在于,所述釉料配制的方法如下:

按重量百分比,将固体粉料15-20%的Y1釉原料、30-35%的Y2釉原料、20-30%的大理石、20-30%的闪长石、5-10%的釉果混合后,再将固体粉料与水按1:4的比例混合制成釉料。

5.根据权利要求1所述的青瓷的制备方法,其特征在于,所述烧制的方法如下:

将喷好釉的坯体装窑后,以1-2℃/min的升温速率由常温升至300℃,此升温过程烟囱调至最大抽力,窑门开启15-25cm缝隙;窑内温度达到300℃时,再以1.5-3.5℃/min的升温速率升温至600℃,此升温过程烟囱保持最大抽力,在窑内温度达到350℃时关闭窑门;窑内温度达到600℃后,快速升温至980-1000℃;从1000℃开始逐渐加大窑内气压,使窑内由氧化气氛转至半还原气氛继续升温;当温度升至1200℃时,减小烟囱抽力,逐渐减小窑内气压,使窑内温度先下降,之后再上升,升温至1280℃后,在1280℃保持1.5-2.5小时后熄火;熄火后将烟囱调至最大抽力,自然降温至100℃以下,即可开窑取出成品。

6.一种如权利要求1所述制备方法制备的青瓷,其特征在于,

所述的青瓷的坯体包括以下重量份成分:T1胎土原料50-60份、T2胎土原料25-35份、大理石原料0-5份、闪长石原料2-5份、粘土5-10份;

所述的青瓷的釉料包括固体粉料和水,固体粉料和水的重量比为1:4;所述的固体粉料由以下重量百分比成分组成:Y1釉原料15-20%、Y2釉原料30-35%、大理石20-30%、闪长石20-30%、釉果5-10%。

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